[发明专利]用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂有效

申请号：	201410444336.7	申请日：	2014-09-02
公开（公告）号：	CN104152843A	公开（公告）日：	2014-11-19
发明（设计）人：	罗德福;漆世荣	申请（专利权）人：	成都伍田机械技术有限责任公司
主分类号：	C23C12/00	分类号：	C23C12/00
代理公司：	北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371	代理人：	吴开磊
地址：	611400 四川省***	国省代码：	四川;51
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摘要：
搜索关键词：	用于提高光轴耐蚀性耐磨性离子
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【权利要求书】：

1.用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂，其特征在于，包括在光轴表层形成复合化合物层与金属氧化层，依次采用的氮碳镧离子渗剂、离子活化渗剂、氧离子渗剂。

2.根据权利要求1所述的用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂，其特征在于，

按重量百分比计，所述氮碳镧离子渗剂由以下组分混合制成：Na₂CO₃10％-15％，K₂CO₃10％-20％，NaCNO55％-65％，CeCO₃l％-3％，Li₂CO₃5％-10％，La₂CO₃0.03-1％。

3.根据权利要求2所述的用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂，其特征在于，

按重量百分比计，所述氮碳镧离子渗剂由以下组分混合制成：Na₂CO₃10％-13％，K₂CO₃13％-18％，NaCNO55％-60％，CeCO₃l％-3％，Li₂CO₃5％-8％，La₂CO₃0.03-0.08％。

4.根据权利要求1所述的用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂，其特征在于，

以重量百分比计，所述离子活化渗剂由以下组分混合制成：Na₂S0₄5％-10％，Na₂CO₃10％-20％，K₂CO₃10％-20％，CO(NH₂)₂30％-45％，K₂SO₃1％-3％，CeCO₃l％-3％，LiOH5％-10％，KCl5％-15％。

5.根据权利要求4所述的用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂，其特征在于，

按重量百分比计，所述离子活化渗剂由以下组分混合制成：Na₂S0₄5％-8％，Na₂CO₃10％-15％，K₂CO₃10％-15％，CO(NH₂)₂35％-40％，K₂SO₃2％-3％，CeCO₃2％-3％，LiOH8％-10％，KCl5％-10％。

6.根据权利要求1所述的用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂，其特征在于，

按重量百分比计，所述氧离子渗剂由以下组分混合制成：Na₂CO₃20％-30％，NaNO₂20％-30％，NaNO₃30％-40％，CeSO₄10％-20％。

7.根据权利要求6所述的用于提高光轴耐蚀性和耐磨性的离子渗剂，其特征在于，

按重量百分比计，所述氧离子渗剂由以下组分混合制成：

Na₂CO₃25％-28％，NaNO₂25％-28％，NaNO₃32％-38％，CeSO₄15％-18％。

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