[发明专利]光致抗蚀组合物、涂覆的基材和形成电子器件的方法

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包括：

包括多个具有以下结构的重复单元的聚合物

其中，R¹和R²的每次出现独立地是氢、未取代或取代的C_1-18直链或支链烷基、未取代或取代的C_3-18环烷基、未取代或取代的C_6-18芳基、或未取代或取代的C_3-18杂芳基；并且，R¹和R²任选地以共价键彼此键合以形成包括-R¹-C-R²-的环；Ar¹、Ar²和Ar³的每次出现独立地是未取代或取代的C_6-18亚芳基，或者未取代或取代的C_3-18杂亚芳基；和，

选自光生酸剂、光生碱剂、光引发剂及其组合的光活性组分。

2.根据权利要求1所述的光致抗蚀组合物，其中，R¹、R²、Ar¹、Ar²或Ar³的至少一次出现被至少一个选自羟基、缩醛、缩酮、酯和内酯的官能团所取代。

3.根据权利要求1所述的光致抗蚀组合物，其中，R¹、R²、Ar¹、Ar²或Ar³的至少一次出现被至少一个羟基所取代。

4.根据权利要求1所述的光致抗蚀组合物，其中，R¹、R²、Ar¹、Ar²或Ar³的至少一次出现被至少一个叔酯所取代。

5.根据权利要求1-4任一项所述的光致抗蚀组合物，其中Ar¹、Ar²和Ar³的每次出现独立地是1，3-亚苯基或1，4-亚苯基。

6.根据权利要求1-5任一项所述的光致抗蚀组合物，其中Ar¹和Ar²彼此不共价连接以形成包括-Ar¹-O-C-O-Ar²-的环结构。

7.根据权利要求1-6任一项所述的光致抗蚀组合物，其中R¹的每次出现是氢；和

R²的每次出现是未取代或取代的苯基。

8.根据权利要求1-6任一项所述的光致抗蚀组合物，其中R¹的每次出现是氢；和

R²的每次出现是苯基、羟苯基、邻-甲氧基苯基、间-甲氧基苯基或对-甲氧基苯基。

9.一种涂覆的基材，所述涂覆的基材包括：(a)在其表面上具有一个或多个要被图案化的层的基材；和(b)在所述的一个或多个要被图案化的层上的权利要求1-8任一项所述的光致抗蚀剂组合物的层。

10.一种形成电子器件的方法，所述方法包括：(a)将权利要求1-8任一项所述的光致抗蚀剂组合物的层施加到基材上；(b)将光致抗蚀剂组合物层图案化曝光于活化辐射；(c)将曝光的光致抗蚀剂组合物层显影，以提供抗蚀剂浮雕图像，和(d)将抗蚀剂浮雕图像蚀刻入下面的基材中。