[发明专利]基于硅量子点的荧光隐形墨水及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种基于硅量子点的荧光隐形墨水，其特征在于，包括表面经过亲油性改性的硅量子点和有机溶剂，其中，所述的硅量子点在有机溶剂中的浓度为0.1％-50％(wt)。

2.根据权利要求1所述的基于硅量子点的荧光隐形墨水，其特征在于，所述的硅量子点的平均尺寸为1-5纳米。

3.根据权利要求1所述的基于硅量子点的荧光隐形墨水，其特征在于，所述的有机溶剂为三甲苯、苯甲醇、松油醇、正己烷和乙醇中的至少一种。

4.根据权利要求1～3任一项所述的基于硅量子点的荧光隐形墨水，其特征在于，还包括表面活性剂、消泡剂和增稠剂中的一种或者多种。

5.一种权利要求1～4任一项所述的基于硅量子点的荧光隐形墨水的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)将硅量子点表面进行氢钝化，然后在氩气气氛保护下，在氢钝化后的硅量子点中加入氢化硅烷化改性剂和溶剂，在160～170℃下搅拌反应1～5小时后，除去溶剂得到所述的亲油性改性的硅量子点；

(2)将步骤(1)得到的亲油性改性的硅量子点分散于所述有机溶剂中，加入或者不加入表面活性剂、消泡剂和增稠剂中的一种或者多种，得到所述的荧光隐形墨水。

6.一种基于硅量子点的荧光隐形墨水，其特征在于，包括表面经过亲水性改性的硅量子点和去离子水，其中，所述的硅量子点在去离子水中的浓度为0.1％-50％(wt)。

7.根据权利要求6所述的基于硅量子点的荧光隐形墨水，其特征在于，所述的硅量子点的平均尺寸为1-5纳米。

8.根据权利要求6或7所述的基于硅量子点的荧光隐形墨水，其特征在于，还包括表面活性剂、消泡剂和增稠剂中的一种或者多种。

9.一种权利要求6～8任一项所述的基于硅量子点的荧光隐形墨水的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)将硅量子点表面进行氢钝化，然后在氩气气氛保护下，在氢钝化后的硅量子点中加入氢化硅烷化改性剂和溶剂，在160～170℃下搅拌反应1～5小时后，除去溶剂得到所述的亲油性改性的硅量子点；

(2)将步骤(1)得到的亲油性改性的硅量子点分散于甲苯中，然后加入双亲性分子的水溶液。在空气中搅拌至溶剂挥发完全后，加入去离子水，通过滤膜过滤，得到表面经过亲水性改性的硅量子点水溶液；

(3)将步骤(2)得到的硅量子点水溶液分散于去离子水中，加入或者不加入表面活性剂、消泡剂和增稠剂中的一种或者多种，得到所述的荧光隐形墨水。

10.一种如权利要求1～4或者6～8任一项所述的基于硅量子点的荧光隐形墨水在制备防伪材料中的应用。