[发明专利]一种石墨烯金属复合电磁屏蔽膜的制备方法

权利要求书

1.一种石墨烯金属复合电磁屏蔽膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：

（1）将1重量份的石墨烯，5~150重量份的溶剂混合，超声分散后得到石墨烯分散液；

（2）将步骤1制备的石墨烯分散液，以10~1000 mL/h的挤出速度在一字形模口的制备装置中挤出，于10~80℃的凝固液中停留1~100秒凝固成膜，干燥后得到高强度石墨烯膜；

（3）通过物理沉淀或化学电镀沉积在步骤（2）制备的高强度石墨烯膜的两侧沉积厚度为0.01-1000μm的金属纳米粒子，得到石墨烯金属复合电磁屏蔽膜；

所述步骤（2）中的一字形模口的制备装置为长方体结构，中间开有一个逐渐变窄的一字形模口；

所述步骤（3）中的金属纳米粒子主要由金、银、铝、铜、铁、锌、铬、镍、钴、铂、钯、铱、铑、钌、钛、钒、镁、铟、镧、铟、锑纳米粒子的一种或多种按照任意比组成；

所述步骤（3）中的物理沉积主要选自真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等；

所述步骤（1）的溶剂主要由水、N-甲基吡咯烷酮、丙酮、二甲亚砜、吡啶、二氧六环、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、四氢呋喃、丁酮、乙二醇、二甘醇中的一种或者多种按照任意配比混合组成；

所述步骤（2）中的凝固液凝固液主要由甲醇、乙醇、乙酸乙酯、正丁醇、乙二醇、环己酮、丙三醇、乙酸丁酯、丙二醇、醋酸正丙酯、乙酸、丙三醇、异丁醇、乙酸甲酯中的一种或多种按照任意配比混合混合得到的混合液。

2. 一种石墨烯金属复合电磁屏蔽膜的制备方法，其特征在于，步骤如下：

（1）将1重量份的氧化石墨烯，5~150重量份的溶剂混合，超声分散后得到氧化石墨烯分散液；

（2）将氧化石墨烯分散液，以10~1000 mL/h的挤出速度在一字形模口的制备装置中挤出，于10~80℃的凝固液中停留1~100秒凝固成膜，干燥后得到氧化石墨烯膜；

（3）将步骤（2）获得的氧化石墨烯膜在还原剂中还原，洗涤干燥得到高强度石墨烯膜；

（4）通过物理沉淀或化学电镀沉积在步骤（3）制备的高强度石墨烯膜的两侧沉积厚度为0.01-1000μm的金属纳米粒子，得到石墨烯金属复合电磁屏蔽膜；

所述步骤（2）中的一字形模口的制备装置为长方体结构，中间开有一个逐渐变窄的一字形模口；

所述步骤（4）中的金属纳米粒子主要由金、银、铝、铜、铁、锌、铬、镍、钴、铂、钯、铱、铑、钌、钛、钒、镁、铟、镧、铟、锑纳米粒子的一种或多种按照任意比组成；

所述步骤（4）中的物理沉积主要选自真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等；

所述步骤（1）的溶剂主要由水、N-甲基吡咯烷酮、丙酮、二甲亚砜、吡啶、二氧六环、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、四氢呋喃、丁酮、乙二醇、二甘醇中的一种或者多种按照任意配比混合组成；

所述步骤（2）中的凝固液凝固液主要由甲醇、乙醇、乙酸乙酯、正丁醇、乙二醇、环己酮、丙三醇、乙酸丁酯、丙二醇、醋酸正丙酯、乙酸、丙三醇、异丁醇、乙酸甲酯中的一种或多种按照任意配比混合混合得到的混合液。

3.根据权利要求2所述的一种石墨烯金属复合电磁屏蔽膜的制备方法，其特征在于，所述的还原剂选自质量分数为1%-40%的水合肼、质量分数为1%-40%的硼氢化钠水溶液、质量分数为1%-40%的苯肼水溶液、质量分数为1%-40%的氢溴酸水溶液、质量分数为1%-40%的茶多酚水溶液、质量分数为1%-40%的尿素水溶液、质量分数为1%-20%的硫代硫酸钠水溶液、质量分数为1%-5%的氢氧化钠水溶液、质量分数为1%-40%的氢氧化钾水溶液、质量分数为5%-50%的维生素C水溶液、质量分数为1%-40%的葡萄糖水溶液、质量分数为1%-40%的氢碘酸水溶液、质量分数为1%-40%的醋酸水溶液、质量分数为1%-40%的苯酚水溶液。