[发明专利]烯基聚氧乙烯醚/马来酸酐/丙烯酸共聚物及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201410461302.9 申请日: 2014-09-11
公开(公告)号: CN104262546B 公开(公告)日: 2017-05-03
发明(设计)人: 张国辉;杨鸿鹰;王丽莉;张哲;温涛;高小媛;郭一平 申请(专利权)人: 陕西省石油化工研究设计院
主分类号: C08F283/06 分类号: C08F283/06;C08F220/06;C08F222/14;C02F5/10
代理公司: 西安永生专利代理有限责任公司61201 代理人: 曹宇飞
地址: 710054*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 烯基聚氧 乙烯 马来 酸酐 丙烯酸 共聚物 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

技术领域

发明属于化工材料研究技术领域,具体涉及到一种烯基聚氧乙烯醚/马来酸酐/丙烯酸共聚物及其制备方法和应用。

背景技术

我国是一个贫水国家,中国水资源总量占全球水资源的6%,仅次于巴西、俄罗斯和加拿大,居世界第4位。但人均水资源量却很少约占世界人均量的1/4、被视为全球13个人均水资源最贫乏的国家之一。我国虽然水资源短缺,但却是工业耗水大国,工业用水总量逐年增加,占全国用水总量的比例也在逐年增加。我国被列为世界上贫水的国家之一。特别是北方、西部广大地区缺水特别严重。

众所周知,工业冷却用水在我国工业用水中占了相当大的比重,是我国目前和今后工业节水工作的重点,已引起了国家政府部门的高度重视。由于冷却塔用水量最大,因此也成为节水过程中关键的目标。目前常用的处理方法就是提高浓缩倍数,但是会导致垢的形成。

硅是地球上含量最丰富的元素之一,也是水环境中最常见的胶体物质,在水中的溶解度通常在150-180mg/L之间。硅垢包括SiO2垢和硅酸盐垢,前者主要是无定形垢,后者主要是指硅酸镁垢,一般情况下也是无定形的。L.Dubin等人研究了高硅水沉积的控制问题,认为硅垢产生的原因有三种机理:(1)硅酸缩合形成胶体无定形SiO2产生沉积;(2)SiO2胶体破坏后发生凝聚并形成垢;(3)硅酸或硅胶与Al3+、Fe3+、Mg2+、Fe2+、Ca2+反应产生沉淀。影响硅垢形成的因素是复杂的,表1为pH值对SiO2溶解度的影响。可见可溶性硅酸盐在pH<9时,可溶性SiO2溶解度120-138mg/L;pH>10时,SiO2溶解度>300mg/L。

表1pH值对SiO2溶解度影响

pH 溶解度(25,mg/L) 6-8 120 9 138 9.5 180 10 310 10.6 876

在一些二氧化硅高的水质地区,高二氧化硅含量常常出现的问题是,无定形二氧氧化硅和硅酸镁的溶解度低,极易形成沉积。当这些无机盐沉积在交换器上或膜表面时,变得十分坚硬,不仅会降低换热器流量,而且一旦剥离后阴着水的循环也会严重干扰系统性能。例如,在冷却水系统中,由于冷却水流量减少而不到达到预定的冷却能力,当硅垢附着于冷却塔等,会导致冷却效率下降,冷却塔上的硅垢剥离后会堵塞换热器。并且硅垢一旦形成便很难去除,常采用具有强腐蚀性的NH4F·HF清洗形成的硅垢,如操作不当会造成危险。

国内外对于阻垢剂的研究较多,但对于阻SiO2垢的药剂国内研究并不多。传统有机膦阻垢剂(包括ATMP,HEDP,EDTMP,DETPMP,某种原因HDTMP,PBTC及PAPEMP)及聚合物分散剂(包括PAA,PMA,AA/MA,PESA及PASP)。其中有机膦类物质为晶体修改型阻垢剂,但含磷成份容易带来微生物问题,导致渗透膜的污染以及磷酸盐在膜上的沉积,国家对磷的排放要求也越来越高,同时这类传统阻垢剂并无显著抑制硅沉积的能力。

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