[发明专利]包括液晶调制器的基板检查设备及液晶调制器的制造方法

说明书

本申请要求于2013年12月3日提交的第10-2013-0149220号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部通过引用完全包含于此。

技术领域

本公开涉及一种包括液晶调制器的基板检查设备，更具体地说，涉及一种用于检测基板的缺陷的基板检查设备和一种包括在该基板检查设备中的液晶调制器的制造方法。

背景技术

近来，已经开发出了诸如液晶显示器(LCD)、有机发光显示器(OLED)和等离子体显示面板(PDP)的显示装置。这些显示装置具有分辨率高、超纤薄、重量轻以及优异的视角特性。

这种显示装置包括用于显示图像的像素。每个像素可包括像素电极和诸如分别与像素电极对应并且电连接到像素电极的薄膜晶体管的驱动电路。存在着检查显示装置的像素电极和驱动电路的缺陷的需要。

发明内容

一些实施例提供一种包括液晶调制器的基板检查设备及一种基板检查设备的液晶调制器的制造方法。

在一些实施例中，一种用于检测基板缺陷的基板检查设备可包括：液晶调制器，被构造为设置在所述基板上；光源单元，设置为与液晶调制器分隔开；分束器，设置在液晶调制器与光源单元之间，以将来自光源单元的光束反射至液晶调制器；测量单元，适于感测从液晶调制器反射的光束。液晶调制器包括：透明基板；共电极，设置在透明基板上；液晶层，设置在透明基板上以与共电极接触；反射层，设置在聚合物网络液晶上。

在一些实施例中，光源单元可包括：光源，用于发射光束；均束器，用于引导从光源发射的光束；反射器，用于沿分束器的方向反射从均束器发射的光束。均束器可以被设置为杆管的形式。

在一些实施例中，基板检查设备还可以包括设置在反射层上以支撑反射层和液晶层的第一支撑部件。第一支撑部件包括第一支撑片、设置在第一支撑片的一个表面上以保护第一支撑片的保护层以及设置在第一支撑片的另一个表面上的硬涂层。保护层设置在第一支撑片与反射层之间。

在一些实施例中，反射层可包括介电镜。介电镜可包括具有第一折射率的多个第一介电层以及具有与第一折射率不同的折射率的多个第二介电层。第一介电层与第二介电层可以交替布置。

在一些实施例中，液晶层可以包括聚合物网络液晶。

在一些实施例中，基板检查设备还可以包括设置在透明基板与共电极之间的粘合层以及设置在共电极与粘合层之间以支撑共电极的第二支撑部件。

在一些实施例中，一种基板检查设备的液晶调制器的制造方法可包括：在透明基板上形成共电极；在共电极上直接形成液晶层；在液晶层上形成反射层。

在一些实施例中，所述制造方法还可以包括在反射层上形成支撑部件。可通过以下步骤来形成支撑部件：准备第一支撑片；在第一支撑片的一个表面上形成保护层；以及在第一支撑片的另一个表面上形成硬涂层。

在一些实施例中，可通过以下步骤来形成液晶层：在共电极上涂覆聚合物网络液晶组成物；以及使聚合物网络液晶组成物固化。

在一些实施例中，反射层可以是介电镜。在这种情况下，可通过交替地堆叠多个具有第一折射率的第一介电层和多个具有与第一折射率不同的折射率的第二介电层来形成反射层。

附图说明

通过参照以下附图的以下描述，上述及其它目的和特征将变得明显，其中，除非另有说明，否则遍及各附图同样的标号表示同样的部分，其中：

图1示出根据示例性实施例的基板检查设备；

图2是根据示例性实施例的液晶调制器的剖视图；

图3是根据另一示例性实施例的液晶调制器的剖视图；

图4A是示出图3中的液晶调制器的制造方法的剖视图；

图4B是示出图3中的液晶调制器的另一制造方法的剖视图；

图5是根据另一示例性实施例的液晶调制器的剖视图；

图6是示出图5中的液晶调制器的制造方法的剖视图；

图7是根据另一示例性实施例的液晶调制器的剖视图；

图8是示出图7中的液晶调制器的制造方法的剖视图；

图9至图11是根据示例性实施例的液晶调制器的剖视图；

图12是示出基于根据实施例的液晶调制器和传统的液晶调制器的电压的反射亮度的曲线图；

图13是示出当在根据示例性实施例的液晶调制器中液晶层为聚合物网络液晶和聚合物分散液晶时的反射率的曲线图；

图14是示出基于根据示例性实施例的液晶调制器的厚度像素的可检测最小间距的曲线图。

具体实施方式