[发明专利]一种屋顶绿化栽培基质及其制备方法有效
申请号: | 201410464951.4 | 申请日: | 2014-09-12 |
公开(公告)号: | CN104291932B | 公开(公告)日: | 2016-11-23 |
发明(设计)人: | 王繁;王浩;原一荃;王娇娇;刘杏梅 | 申请(专利权)人: | 杭州师范大学 |
主分类号: | C05G3/00 | 分类号: | C05G3/00;C05F17/00 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 黄美娟;王兵 |
地址: | 310036 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 屋顶 绿化 栽培 基质 及其 制备 方法 | ||
(一)技术领域
本发明涉及一种屋顶绿化栽培基质及其制备方法,具体涉及一种主要以园林绿化废弃物和城市生活污泥为堆肥材料,辅助添加珍珠岩而制备的屋顶绿化栽培基质材料。
(二)背景技术
随着城市面积不断的扩大,大量的土地被用于建设高楼和现代化工厂,城市热岛效应和空气质量受到越来越多的影响到人们的生活,给城市进行绿化也显得愈发重要,其中屋顶绿化便是绿化形式之一。由于目前屋顶绿化基质采用纯土、草炭、珍珠岩、砂子等作为栽培基质,各种基质有其各自缺点,如土壤、砂子密度大,老旧的屋顶承重有限,存有安全隐患,此外这些无机材料保水保肥能力差。草炭则在同一产地不同深度开采的也会有差异,表现为性状不稳定,并且草炭是不可再生资源,大量使用造成屋顶绿化造价偏高,不利于大规模推广。基于上述材料的种种弊端,研发一种新型的屋顶绿化基质迫在眉睫。
专利号为03126785.8的《屋顶绿化长效轻型基质配方》一文,公开了一种屋顶绿化长效轻型基质配方,以废弃材料为主配置轻型屋顶绿化种植基质,基质的配置:泥炭土、锯木屑、椰糠、珍珠岩、陶粒、黄壤土、长效复合缓释肥、保水剂;材料配比:泥炭土40-45%、黄壤土18-20%、锯木屑10-15%、椰糠8-10%、陶粒4-5%、珍珠岩3-4%、长效复合缓释肥0.81-1%和少量保水剂。然而,该专利存在如下缺点:1、该专利基质主要组成成分为泥炭,泥炭相比较于废弃物原料价格较高,若投入生产导致成本增加。另外,泥炭为不可再生资源,为保护我国资源,目前我国大部分地区已经开始限制和禁止泥炭开采。因此,从环境保护与长远发展角度考虑,在屋顶绿化上应采用其它原材料替代泥炭。2、其中珍珠岩、陶粒为园艺常用基质组分,价格较工农业废弃物原料高,进一步增加了此基质成本。3、该专利所采用的锯木屑、椰糠不属于大众型废弃物,此类废弃物产生的范围与区域有限,数量较有限,采买运输费用较高,在生产链条中可能供应不足,不适宜在全国大面积推广。
专利号为CN 101647385 B的《一种轻型屋顶绿化预制景天毯的栽培基质》一文中公开了一种轻型屋顶绿化预制景天毯的基质配方,包括草炭、珍珠岩和棕榈丝,其中草炭、珍珠岩、棕榈丝的体积比为2~6∶1~3∶0~2。所述珍珠岩为膨胀珍珠岩,膨胀倍数K0>5~15倍,容重≤80kg/m3~200kg/m3,二氧化硅含量60-70%,水分含量4~6%;所述棕榈丝长度为2-10cm,占所述基质总体积的17%;所述棕榈丝长度为2-6cm,占所述基质总体积的22%;所述草炭、珍珠岩和棕榈丝的体积比为4∶1∶1;所述草炭、珍珠岩和棕榈丝的体积比为6∶1∶2;所述预制景天毯的长宽为40cm×40cm,基质厚度为2.5cm;所述基质配方在制备须根系植物栽培中的应用。然而该专利存在如下缺点:1、草炭和珍珠岩均为园艺栽培材料,草炭为不可再生资源,价格昂贵,若大面积的屋顶绿化造成屋顶绿化成本较高。2、棕榈丝只有少数地方生产,数量较有限,运输费用高,材料价格较贵不适合大面积屋顶绿化。
目前利用工农业有机垃圾经过高温好氧堆肥成为栽培基质越来越流行。各地利用当地大量的工农业有机垃圾作为材料制作绿化栽培基质,这不仅使垃圾得到有效处理,经过生物处理后还成为一种种植资源,其对生态环境的保护具有重要意义,实现了资源的循环利用,促进社会的发展。但作为屋顶栽培基质很难用一种材料满足所有植物生长需求和建筑要求,所以利用多种材料混合搭配能很好解决这类情况。
(三)发明内容
本发明的目的是提供一种屋顶绿化栽培基质及其制备方法,所述屋顶绿化栽培基质主要是以园林绿化废弃物和城市生活污泥为堆肥材料,辅助添加珍珠岩制备得到的。
为了实现上述目的,本发明的技术方案是:
一种屋顶绿化栽培基质,所述屋顶绿化栽培基质是由园林绿化废弃物、城市生活污泥和珍珠岩制成的,所述园林绿化废弃物是指在城市绿化过程中所产生的枯枝、落叶、草屑及其他绿化修剪物,所述城市生活污泥是指城市生活污水处理厂的剩余污泥;
所述屋顶绿化栽培基质是按如下方法制备得到的:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州师范大学,未经杭州师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410464951.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。