[发明专利]纳米二氧化硅生产工艺技术

权利要求书

1.一种纳米二氧化硅生产工艺技术，其特征在于：包括以下步骤：

1）制备高纯度水，并用制备的高纯度水配制浓度为5.5%的NaCl水溶液、浓度为40%的Na₂SiO₃水溶液和浓度为15.5%的稀盐酸溶液；

2）反应过程工艺：在反应釜中加入步骤1）配制的NaCl水溶液、Na₂SiO₃水溶液和稀盐酸溶液； 

3）陈化过程：将反应釜中反应后的溶液引入储料罐中，进行陈化，进一步反应形成溶胶；

4）压滤洗涤：将陈化后的溶胶泵入压滤机中进行压滤，反复多次用去离子水清洗，清洗至清洗滤液的电导率达到20um/cm时，停止清洗；

5）干燥：将步骤4）得到的湿滤饼干燥至含水量1.5%以下； 

6）粉碎：将干燥后的粉体颗粒收集后粉碎到5~10μm，即得到所述纳米二氧化硅。

2.根据权利要求1所述纳米二氧化硅生产工艺技术，其特征在于：以重量百分比计，步骤2）所述在反应釜中加入步骤1）配制的NaCl水溶液76.5%、Na₂SiO₃水溶液14.6%和稀盐酸溶液8.9%。

3.根据权利要求2所述纳米二氧化硅生产工艺技术，其特征在于：步骤2）还包括先将配制好的NaCl水溶液通过计量泵注入到反应釜中，控制溶液温度在25±0.5℃；然后将配制好的Na₂SiO₃水溶液通过计量泵注入到所述反应釜中，搅拌均匀；最后通过计量泵，采用环形多孔分流滴加稀盐酸溶液,保持第一预定滴加速率，滴加一定时间；保持溶液温度25±0.5℃。

4.根据权利要求1所述纳米二氧化硅生产工艺技术，其特征在于：步骤3）还包括通过计量泵继续缓慢加入步骤1）配制的稀盐酸溶液，保持第二预定滴加速率，第二预定滴加速率大于第一预定滴加速率，稀盐酸滴加时间与步骤2）稀盐酸的滴加时间相同。

5.根据权利要求3或4所述纳米二氧化硅生产工艺技术，其特征在于：所述稀盐酸滴加过程中，反应釜中溶液一直保持高速搅拌,转速为90转/分钟~100转/分钟。

6.根据权利要求1所述纳米二氧化硅生产工艺技术，其特征在于：步骤4）所述压滤洗涤还包括以下步骤：

①把陈化后的溶胶通过计量泵泵入压滤机；

②第一次压滤液进入回收罐进行回收处理；

③采用步骤②回收处理过的滤液对滤饼进行第一次清洗，清洗液在回收罐中回收处理；

④采用步骤③处理过的回收清洗液进行第二次清洗，清洗液在回收罐中回收处理；

⑤采用步骤1）制得的去离子纯水进行第三次清洗，清洗液在回收罐中回收处理；

⑥再多次采用步骤1）制得的去离子纯水进行清洗，当清洗滤液的电导率不小于20um/cm后，洗涤结束，回收清洗液作为第一、二次清洗液使用。

7.根据权利要求1所述纳米二氧化硅生产工艺技术，其特征在于：步骤5）所述干燥为采用盘式干燥机进行干燥，通过热交换器预热进口空气，干燥初始空气温度为310℃~330℃，空气流量控制出口空气温度为190℃~210℃。

8.根据权利要求1所述纳米二氧化硅生产工艺技术，其特征在于：步骤6）还包括将干燥出来的粉体颗粒收集后经超音速气流进行粉碎。

9.根据权利要求3所述纳米二氧化硅生产工艺技术，其特征在于：所述第一预定滴加速率为13kg/min。

10.根据权利要求4所述纳米二氧化硅生产工艺技术，其特征在于：所述第二预定滴加速率为20kg/min。