[发明专利]一种防腐耐磨铁基非晶薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种制备防腐耐磨铁基非晶薄膜的方法，其特征在于，所述防腐耐磨铁基非晶薄膜厚度为50nm～3um，其为单相非晶结构，其包括的成分及其原子百分比含量分别为：14.0～22.0at.％Cr，6.0～16.0at.％Mo，4.0～7.0at.％B，4.0～20.0at.％C，1.0～3.0at.％W以及余量的Fe，其用于航空航天、电子数码与家电3C产品的表面，起到防腐蚀与耐磨损的作用，

采用单一靶材的磁控溅射方法制备，具体包含以下步骤：

S1：制备靶材：先分别将含有Fe，Cr，C，B元素的材料进行预炼以获得块状锭子，再将所述块状锭子与含有Mo元素的材料或/和含有W元素的材料进行冶炼以制备成分均匀的合金靶材；

S2：选择玻璃片、Si基片、金属材料、塑料中的一种为衬底材料，将衬底表面进行平整化处理以使其光滑，然后清洁干燥；

S3：进行磁控溅射：所述磁控溅射的参数为，背景真空度值小于或等于5x10^-4Pa，功率为30～200W，靶基距为40～100mm，保护气体气压为0.2～6.0Pa，即获得防腐耐磨铁基非晶薄膜。

2.如权利要求1所述的一种制备防腐耐磨铁基非晶薄膜的方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述清洁干燥具体为依次经过丙酮、酒精和去离子水清洗，最后吹干待用。

3.如权利要求1或2所述的一种制备防腐耐磨铁基非晶薄膜的方法，其特征在于，所述步骤S3中，进行磁控溅射的参数还包括：衬底温度为298～323K，溅射时间为2～120min。

4.如权利要求3所述的一种制备防腐耐磨铁基非晶薄膜的方法，其特征在于，所述步骤S3中，所述保护气体为氩气。