[发明专利]光场采集控制方法和装置、光场采集设备

权利要求书

1.一种光场采集控制方法，其特征在于，包括：

获取待摄场景的深度信息；

根据所述深度信息确定光场相机的图像传感器的目标像素密度分布信息；

根据所述目标像素密度分布信息调整所述图像传感器的像素密度分布；

经调整后的所述图像传感器进行所述待摄场景的光场采集。

2.根据权利要求1所述的光场采集控制方法，其特征在于，根据所述深度信息确定所述目标像素密度分布信息，包括：

根据所述深度信息将所述待摄场景在景深方向进行区域划分；

根据所述区域划分的结果确定所述目标像素密度分布信息，所述目标像素密度分布信息中对应划分的至少二个不同区域的目标像素密度分布存在差异。

3.根据权利要求2所述的光场采集控制方法，其特征在于，所述目标像素密度分布信息中，对应不同区域的平均目标像素密度随着不同区域的景深深度的增加呈现一定规律的渐变。

4.根据权利要求2所述的光场采集控制方法，其特征在于，所述目标像素密度分布信息中，对应景深较浅的区域的平均目标像素密度大于对应景深较深区域的平均目标像素密度。

5.根据权利要求2-4任一所述的光场采集控制方法，其特征在于，根据所述区域划分的结果确定所述目标像素密度分布信息，包括：

确定所述光场相机的子透镜阵列中影响所述区域划分的结果中各区域的光场采集的子透镜的分布信息；

确定与所述子透镜的分布信息对应的所述图像传感器的成像区分布信息；

根据所述成像区分布信息确定所述目标像素密度分布信息，其中，所述目标密度分布信息中对应至少二个不同成像区的目标像素密度分布存在差异。

6.根据权利要求2-4任一所述的光场采集控制方法，其特征在于，根据所述区域划分的结果确定所述目标像素密度分布信息，包括：

根据所述区域划分的结果确定所述待摄场景光场采集的目标视角分布信息；

根据所述目标视角分布信息确定所述目标像素密度分布信息。

7.根据权利要求6所述的光场采集控制方法，其特征在于，所述目标视角分布信息中，对应不同区域的平均目标视角数量随着不同区域的景深深度的增加呈现一定规律的渐变。

8.根据权利要求7所述的光场采集控制方法，其特征在于，所述目标视角分布信息中，对应景深较浅的区域的平均目标视角数量大于对应景深较深区域的平均目标视角数量。

9.根据权利要求6-8任一所述的光场采集控制方法，其特征在于，根据所述目标视角分布信息确定所述目标像素密度分布信息，包括：

确定所述光场相机的子透镜阵列中，影响所述区域划分的结果的各区域的光场采集的子透镜的分布信息；

确定与所述子透镜的分布信息对应的所述图像传感器的成像区分布信息；

确定所述成像区分布信息中各成像区与所述目标视角分布信息对应的成像子区分布信息；

根据所述成像子区分布信息确定所述目标像素密度分布信息，其中，所述目标像素密度分布信息中对应至少二个不同成像子区的目标像素密度分布存在差异。

10.根据权利要求1-9任一所述的光场采集控制方法，其特征在于，根据所述目标像素密度分布信息调整所述图像传感器的像素密度分布，包括：

根据所述目标像素密度分布信息确定可控变形材料部的形变控制信息；

根据所述形变控制信息控制所述可控变形材料部发生形变，以通过所述可控变形材料部的形变相应调整所述图像传感器的像素密度分布。

11.根据权利要求10所述的光场采集控制方法，其特征在于，所述可控变形材料部至少由以下一种或多种可控变形材料制备而成：压电材料、电活性聚合物、光致形变材料、磁致伸缩材料。

12.一种光场采集控制装置，其特征在于，包括：

一场景深度信息获取模块，用于获取待摄场景的深度信息；

一目标像素密度分布信息确定模块，用于根据所述深度信息确定光场相机的图像传感器的目标像素密度分布信息；

一像素密度分布调整模块，用于根据所述目标像素密度分布信息调整所述图像传感器的像素密度分布；

一光场采集模块，用于经调整后的所述图像传感器进行所述待摄场景的光场采集。