[发明专利]凹坑配液过程形成光学透镜的装置和方法有效
申请号: | 201410471111.0 | 申请日: | 2014-09-16 |
公开(公告)号: | CN104511995B | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 梁慧燕;范世伦;张家扬 | 申请(专利权)人: | 豪威科技股份有限公司 |
主分类号: | B29C43/36 | 分类号: | B29C43/36;B29L11/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人: | 宋融冰 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 凹坑配液 过程 形成 光学 透镜 装置 方法 | ||
技术领域
本发明涉及光学领域,尤其涉及一种凹坑配液过程形成光学透镜的装置和方法。
背景技术
利用凹坑配液过程的晶圆级光学透镜的设计,利用模具将凹坑的光学镜片材料压印,或者印记在基材上,从而在模具空腔中产生透镜。利用凹坑配液过程之习知技术,往往会造成气泡且无法脱离模具内的空腔。这种气泡是不想要的,其会极大地影响到透镜设计的质量。
另外,与最大透镜光圈有关的模具的边缘通常需要压在基板上,使得凹坑的光学透镜材料可以充分地分散在界定透镜的空腔内。然而,因为模具与基板的直接接触,许多光学透镜会在压印过程中损坏掉。
为了解决上述之问题,模具可以不以全部的方式被打印在基板上,使得在基板和模具的边缘之间形成底层。然而,底层通常具有不希望的厚度。另外,产生底层需要的额外的和不必要的光学透镜材料,因而增加了制造的成本。
发明内容
本发明示例性实施例描述如下。下面的描述旨在提供对本发明的某些方面的概述,且不是用来限制本发明的范围。例如,某些实施例可具有比下面描述的或多或少的组件。
本文所述的第一方面,是用来在晶圆级凹坑配液过程中形成光学透镜的装置,该装置包括一个模具,该模具含有具有第一顶部的间隔空腔部分,具有第二顶部的透镜空腔部分,与具有第三顶部的流动停止控制部分。流动停止控制部分系位于间隔空腔部分和透镜空腔部分之间的渠道,其中间隔空腔部分,透镜空腔部分,和流动停止控制部分均沿着第一水平面对齐,使得光学透镜材料可以流动于间隔空腔部分与透镜空腔部分之间而通过流动停止控制部分。该装置和/或模具可进一步包括在间隔空腔部分内的基座。基座可以是单一个或多个圆柱形的基座,多个圆柱形的基座,和/或杆形的基座。
本文所述的第二方面,是制造光学透镜阵列的方法,该方法包括:形成光学透镜阵列的间隔部分,形成光学透镜阵列的透镜部分,形成光学透镜阵列的流动停止控制部分,该流动停止控制部分界定透镜部分和间隔件部分之间的空腔,其中形成间隔件部分,形成透镜部分,和形成流动停止控制部分的步骤,在将光学透镜模具压印在具有光学透镜材料的基材上时,同时被完成。
本文所述的第三方面,是在凹坑配液过程中形成的示例性的光学透镜阵列,该光学透镜阵列包括多重光学透镜部分;间隔件部分;以及位于间隔件部分与多重光学透镜部分之间的流动停止控制部分。光学透镜阵列还可以包括基座空腔部分。
附图说明
图1显示在一个实施例中的示例性模具装置,其包括用来在凹坑配液过程中形成光学透镜的流动停止控制部分。
图2显示在一个实施例中的示例性模具装置,其包括至少一个用来在凹坑配液过程中形成光学透镜的基座。
图3显示在一个实施例中的示例性模具装置的图,该模具装置被压印在基板上。
图4显示图3中的示例性模具装置的图,该模具装置被压印在含有光学透镜材料之基板上。
图5显示在一个实施例中的二乘二的透镜阵列的顶视图,该透镜阵列系使用具有单一的圆柱基座的模具装置所形成。
图6显示在一个实施例中的三乘三的透镜阵列的顶视图,该透镜阵列系使用具有单一的圆柱基座的模具装置所形成。
图7显示沿着图6的透镜阵列的横截面线AA和BB的两个示例性的横截面图,其包括模具装置。
图8显示在一个实施例中的二乘二的透镜阵列的顶视图,该透镜阵列系使用具有多个圆柱基座的模具装置所形成。
图9显示在一个实施例中的三乘三的透镜阵列的顶视图,该透镜阵列系使用具有多个圆柱基座的模具装置所形成。
图10显示分别沿着图9的透镜阵列的横截面线AA和BB的两个示例性的横截面图,其包括模具装置。
图11显示在一个实施例中的二乘二的透镜阵列的顶视图,该透镜阵列系使用具有多个杆形基座的模具装置所形成。
图12显示在一个实施例中的三乘三的透镜阵列的顶视图,该透镜阵列系使用具有多个杆形基座的模具装置所形成。
图13显示分别沿着图12的透镜阵列的横截面线AA和BB的两个示例性的横截面图,其包括模具装置。
图14是一个流程图,显示在一个实施例中的示例性的方法,用来制造光学透镜阵列。
具体实施方式
现在请参考图标,其中相同的零件以相同的数字表示。一般参考图示,下面的讨论系描述一种方法,其在晶圆级凹坑配液过程中,使用包括基座的光学模具,以及使用该光学模具来制造光学组件阵列。
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