[发明专利]一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜有效
| 申请号： | 201410477962.6 | 申请日： | 2014-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN104199175A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 朱咸昌;胡松;赵立新 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B13/06 | 分类号： | G02B13/06;G02B13/22;G02B13/18;G02B13/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明;顾炜 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 投影 光刻 视场 曝光 物镜 | ||
1.一种应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，其特征在于：该投影曝光物镜采用双远心结构，即物镜物方和像方主光线与光轴平行；投影曝光物镜分为前后两部分：透镜组Ⅰ和透镜组Ⅱ，光阑位于透镜组Ⅰ和Ⅱ的共焦面；透镜组Ⅰ和透镜组Ⅱ分别由两组透镜组成，透镜组Ⅰ和透镜组Ⅱ从掩模面到硅片面沿光轴依次由正光焦度的透镜组(1)、负光焦度透镜组(2)、光阑、负光焦度透镜组(3)和正光焦度透镜组(4)组成。
2.根据权利要求1所述的应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，其特征在于：透镜组Ⅰ和透镜组Ⅱ至少由26片透镜组成：该投影曝光物镜第一片透镜是双凹的负透镜；最后一片透镜为玻璃平板，作为光学保护窗口同时便于替换。
3.根据权利要求1所述的应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，其特征在于：为减小系统体积和重量、减小透镜片数、节约材料和透镜加工成本，共使用4片14阶非球面校正系统像差。
4.根据权利要求1所述的应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，其特征在于：该投影曝光物镜物像共轭距不超过1700mm，即系统总长小于1700mm；物方工作距不小于60mm，像方工作距不小于70mm，为后续物镜结构设计留出足够的空间。
5.根据权利要求1所述的应用于投影光刻机的大视场投影曝光物镜，其特征在于：该投影曝光物镜数值孔径NA为0.16，分辨力为1.5μm；曝光视场为132mm×132mm；场曲优于±4μm；畸变优于±0.08μm，满足高精度大面积光刻机需求。
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