[发明专利]一种构建地层反射系数的方法在审
申请号: | 201410479012.7 | 申请日: | 2014-09-18 |
公开(公告)号: | CN105487112A | 公开(公告)日: | 2016-04-13 |
发明(设计)人: | 郭书娟;徐兆涛;段心标 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油物探技术研究院 |
主分类号: | G01V1/28 | 分类号: | G01V1/28 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 朱绘;张文娟 |
地址: | 100728 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 构建 地层 反射 系数 方法 | ||
技术领域
本发明涉及地质勘探技术领域,具体地说,涉及一种构建地层反射系数的方 法。
背景技术
地震勘探的过程,就是在地面上的一系列点上,利用人工激发地震波,地震 波向地下传播,当遇到波阻抗(地震波在地层介质中向地下传播的速度与介质密 度的乘积)界面(即上下地层波阻抗不相等面)时,在波阻抗界面上地震波产生反 射,地震波传播方向发生改变,地震波开始向上传播,在地面上的一系列接收点 上安置着接收器,接收向上传播的地震波数据,这是地震勘探的正过程(野外勘 探过程)。技术人员需要利用接收器接收到的地震波数据,来反演地层反射系数 成像,以便于了解地层的结构,对地层进行研究。
发明人发现,现有的地层反射系数成像主要通过波动方程偏移,可实现复杂 构造成像与基于能量补偿的相对保幅。但保幅的效果不理想,不利于构建较为精 确的地层反射系数。
发明内容
本发明的目的在于提供一种构建地层反射系数的方法,为一种能够构建精确 的地层反射系数的方法。
本发明提供一种构建地层反射系数的方法,包括:
获取速度场和观测炮数据;
根据所述速度场和所述观测炮数据进行双程波偏移,得到初始的地层反射系 数;
对所述初始的地层反射系数进行最小二乘反演偏移迭代处理,得到处理后的 地层反射系数。
所述对初始偏移的成像结果进行最小二乘偏移反演迭代处理,得到地层反射 系数包括:
步骤a、获取反偏移算子,获取所述初始的地层反射系数作为当前的地层反 射系数;
步骤b、根据观测炮数据、所述反偏移算子和当前的地层反射系数得到更新 的地层反射系数;
步骤c、基于更新的地层反射系数,得到当前的模拟炮数据;
步骤d、判断当前的模拟炮数据与所述观测炮数据的残差是否小于预设值, 若是,执行步骤e,若否,则执行步骤f;
步骤e、获取所得到的更新的地层反射系数作为所述处理后的地层反射系数 输出;
步骤f、获取所得到的更新的地层反射系数作为当前的地层反射系数,返回 执行步骤b。
在所述步骤b中:
基于所述观测炮数据、所述反偏移算子和当前的地层反射系数,形成梯度;
基于所述梯度得到更新步长;
根据所述更新步长和当前的地层反射系数,得到更新的地层反射系数。
在步骤e之后,所述方法还包括:
步骤g、输出所述地层反射系数对应的成像结果。
在步骤g之后,所述方法还包括:
步骤h、对所述地层反射系数进行波阻抗参数反演处理,并输出所述地层反 射系数对应的波阻抗参数反演结果。
利用稀疏脉冲反演算法,对所输出的地层反射系数进行波阻抗参数反演,并 输出波阻抗参数反演结果。
本发明带来了以下有益效果:在本发明实施例的技术方案中,提供了一种构 建地层反射系数的方法,该方法利用最小二乘反演偏移迭代处理经过双程波偏移 的初始的地层反射系数。最小二乘反演偏移迭代处理不仅实现地层反射系数的构 建,还能够进行地震振幅能量处理。因此,最小二乘反演偏移迭代处理实现了真 正意义的保幅成像,即构建了精确的地层反射系数。保证研究人员对于对应的地 层能够做出切实准确的研究。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书 中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过 在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需 要的附图做简单的介绍:
图1是本发明实施例所提供的构建地层反射系数的方法的流程示意图一;
图2是本发明实施例所提供的构建地层反射系数的方法的流程示意图二;
图3是本发明实施例所提供的构建地层反射系数的方法的流程示意图三;
图4是本发明实施例所提供的SEG_EAGE模型的示意图;
图5是本发明实施例所提供的基于图4的经过10次最小二乘反演偏移迭代 处理所构建的地层反射系数对应的成像结果;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油物探技术研究院,未经中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油物探技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
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