[发明专利]一种分子筛、其制造方法及其应用有效
| 申请号： | 201410484573.6 | 申请日： | 2014-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN104511271B | 公开（公告）日： | 2017-12-15 |
| 发明（设计）人： | 杨为民;王振东;孙洪敏;张斌;宦明耀;沈震浩;薛明伟 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司上海石油化工研究院 |
| 主分类号： | B01J20/18 | 分类号： | B01J20/18;B01J20/30;B01J29/06;B01J35/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 孙秀武,杨思捷 |
| 地址： | 100728 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 分子筛 制造 方法 及其 应用 | ||
1.一种分子筛，其特征在于，具有如式“第一氧化物·第二氧化物”所示的示意性化学组成，其中所述第一氧化物与所述第二氧化物的摩尔比为20-2000，所述第一氧化物选自二氧化硅和二氧化锗中的至少一种，所述第二氧化物选自氧化铝、氧化硼、氧化铁、氧化镓、氧化钛、稀土氧化物、氧化铟和氧化钒中的至少一种，并且所述分子筛具有基本上如下表所示的X射线衍射图案，
2.权利要求1所述的分子筛，其中，所述X射线衍射图案还包括基本上如下表所示的X射线衍射峰，
3.一种分子筛，其特征在于，具有如式“第一氧化物·第二氧化物”或式“第一氧化物·第二氧化物·有机模板剂·水”所示的示意性化学组成，其中所述第一氧化物与所述第二氧化物的摩尔比为20-2000，所述有机模板剂与所述第一氧化物的质量比为0.03-0.38，水与所述第一氧化物的质量比为0-0.15，所述第一氧化物选自二氧化硅和二氧化锗中的至少一种，所述第二氧化物选自氧化铝、氧化硼、氧化铁、氧化镓、氧化钛、稀土氧化物、氧化铟和氧化钒中的至少一种，并且所述分子筛具有基本上如下表所示的X射线衍射图案，
4.权利要求3所述的分子筛，其中，所述X射线衍射图案还包括基本上如下表所示的X射线衍射峰，
5.权利要求1或3所述的分子筛，其中，经BET法测得的总孔体积不低于0.5厘米3/克，经BET法测得的总比表面积不低于450米2/克，经BET法测得的外比表面积不低于185米2/克，并且外比表面积占总比表面积的比例不低于40％。
6.权利要求1或3所述的分子筛，具有MWW拓扑骨架结构，其晶体的至少80％是以TEM法测量的厚度为5nm的片状晶体。
7.权利要求1或3所述的分子筛，其中，其中所述第一氧化物与所述第二氧化物的摩尔比为25-200。
8.权利要求1或3所述的分子筛，其中，所述第一氧化物为二氧化硅。
9.权利要求1或3所述的分子筛，其中，所述第二氧化物为氧化铝。
10.权利要求3所述的分子筛，其中，所述有机模板剂与所述第一氧化物的质量比为0.07-0.27。
11.权利要求3所述的分子筛，其中，水与所述第一氧化物的质量比为0.02-0.11。
12.权利要求5所述的分子筛，其中，经BET法测得的总孔体积为0.55-0.90厘米3/克。
13.权利要求5所述的分子筛，其中，经BET法测得的总比表面积为480-680米2/克。
14.权利要求5所述的分子筛，其中，经BET法测得的外比表面积为200-400米2/克。
15.权利要求5所述的分子筛，其中，外比表面积占总比表面积的比例为45-65％。
16.权利要求6所述的分子筛，其中，晶体的至少85％是以TEM法测量的厚度为5nm的片状晶体。
17.权利要求6所述的分子筛，其中，晶体的至少90％是以TEM法测量的厚度为5nm的片状晶体。
18.权利要求6所述的分子筛，其中，晶体的至少95％是以TEM法测量的厚度为5nm的片状晶体。
19.权利要求6所述的分子筛，其中，晶体的至少99％是以TEM法测量的厚度为5nm的片状晶体。
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