[发明专利]防止光刻胶结晶的方法

权利要求书

1.一种防止光刻胶结晶的方法，其特征在于，包括：

通过喷嘴向晶圆喷洒光刻胶并在晶圆表面形成光刻胶涂层；

对喷嘴中存留的光刻胶进行回吸，以在喷嘴中吸入空气；

将喷嘴置于光刻胶稀释溶剂中，并吸取光刻胶稀释溶剂；

其中，在对喷嘴中存留的光刻胶进行回吸之后，且吸取光刻胶稀释溶剂之前，还包括排出部分回吸时吸入的空气的步骤。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，排除部分回吸时吸入的空气后，喷嘴中剩余的空气隔离喷嘴中存留的光刻胶与吸取的光刻胶稀释溶剂。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，通过喷嘴向晶圆喷洒光刻胶之前，还包括通过喷嘴进行空喷的步骤。

4.根据权利要求1至3任一项所述的方法，其特征在于，所述光刻胶为正性光刻胶或负性光刻胶。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述光刻胶稀释溶剂为丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯或者丙二醇甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯混合得到的溶剂。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述溶剂为丙二醇甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯以7∶3的比例混合得到的混合溶剂。