[发明专利]模具的排气入子在审
申请号: | 201410488231.1 | 申请日: | 2014-09-22 |
公开(公告)号: | CN105415603A | 公开(公告)日: | 2016-03-23 |
发明(设计)人: | 石磊 | 申请(专利权)人: | 汉达精密电子(昆山)有限公司 |
主分类号: | B29C45/34 | 分类号: | B29C45/34 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 模具 排气 | ||
【技术领域】
本发明涉及模具,特别是涉及一种模具的排气入子。
【背景技术】
在注塑成型塑胶件产品时,随着熔融塑胶液的注入而使模腔中产生气体,该气体主要包括:模腔和浇注系统中所存在的空气,塑料原料中含有的水分在高温下蒸发所产生的水蒸气,高温下塑料分解所产生的气体和塑料中某些添加剂挥发所产生的气体。在注塑时,如果这些气体不能及时地从模腔中排出,则在成型产品时这些气体会在产品的表面产生气孔、气纹、空洞、烧焦、气泡等众多问题。
请参阅图1,图1绘示为现有技术的一种模具的排气入子的结构示意图。该排气入子包括若干个通过定位销200串联起来的排气片100。此类排气片100加工片数多,因每一片加工时都会产生加工误差,串联起来造成公差累积(公差累积=每片的公差×加工片数),排气入子上的成型结构,例如如图1所示的各排气片100顶端的凸台300,易错位较多,相应该各该凸台300所产生的网孔错位也会较多,模具需多次返修,费时费力。
有鉴于此,实有必要开发一种模具的排气入子,以解决上述问题。
【发明内容】
因此,本发明的目的是提供一种模具的排气入子,以解决现有技术的排气入子由若干个排气片串联,由于各排气片的公差而造成累积公差,而设于各排气片上的成型结构所成型的形体易错位较多的问题。
为了达到上述目的,本发明提供的模具的排气入子,包括:
排气基座,其上间隔设有若干个开槽及若干个基座排气片,所述排气基座上沿着与所述基座排气片所在平面垂直的方向开设有贯通的排气孔,所述排气孔与所述开槽的底部连通;
若干个独立排气片,各独立排气片分别设于上述一开槽内。
可选的,所述开槽内具有挂台,所述独立排气片具有与所述挂台对应的挡块。
可选的,所述基座排气片和/或所述独立排气片顶部具有成型结构。
可选的,所述成型结构为凸台。
可选的,所述成型结构为凹槽。
相较于现有技术,利用本发明模具的排气入子,由于独立排气片的个数变少,约为之前的一半,所述基座排气片是由所述排气基座一体加工的,各所述基座排气片之间也是独立的,不会产生累积公差,所述独立排气片是分别设于所述开槽内的,相互之间也不会产生累积公差。因此,各排气片之间不会产生累积公差,设于排气片上的成型结构也不会产生累积公差,所生产出来的产品相应部分的形体不会错位,避免模具返修,提高效率。
【附图说明】
图1绘示为现有技术的一种模具的排气入子的结构示意图。
图2绘示为本发明的模具的排气入子一较佳实施例的结构示意图。
图3绘示为本发明的模具的排气入子一较佳实施例的分解结构示意图。
【具体实施方式】
请结合参阅图2、图3,图2绘示为本发明的模具的排气入子一较佳实施例的结构示意图、图3绘示为本发明的模具的排气入子一较佳实施例的分解结构示意图。
为了达到上述目的,本发明提供的模具的排气入子,包括:
排气基座10,其上间隔设有若干个开槽11及若干个基座排气片12,所述排气基座10上沿着与所述基座排气片12所在平面垂直的方向开设有贯通的排气孔13,所述排气孔13与所述开槽11的底部连通,通过所述排气孔13达成排气的作用;
若干个独立排气片14,各独立排气片14分别设于上述一开槽11内。
其中,所述开槽11内具有挂台,所述独立排气片14具有与所述挂台对应的挡块,通过所述挂台与所述挡块之间的相互配合,可以达成对所述独立排气片14的限位作用。
其中,所述基座排气片12和/或所述独立排气片14顶部具有成型结构,用以成型产品的相应部分。于本实施例,所述成型结构为凸台15,用以成型产品上的网孔;当然,所述成型结构为凹槽或其它结构,用以成型产品上的肋条及其它形状。
利用本发明模具的排气入子,独立排气片14的个数变少,约为之前的一半,所述基座排气片12是由所述排气基座10一体加工的,各所述基座排气片12之间也是独立的,不会产生累积公差,所述独立排气片14是分别设于所述开槽11内的,相互之间也不会产生累积公差。因此,各排气片之间不会产生累积公差,设于各排气片上的成型结构也不会产生累积公差,所生产出来的产品相应部分的形体不会错位,同时组装方便,避免模具返修,提高效率。
需指出的是,本发明不限于上述实施方式,任何熟悉本专业的技术人员基于本发明技术方案对上述实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,都落入本发明的保护范围内。
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