[发明专利]指纹细节点集合的向量化描述方法及系统有效

专利信息
申请号: 201410490632.0 申请日: 2014-09-23
公开(公告)号: CN104268522B 公开(公告)日: 2018-08-03
发明(设计)人: 冯建江;周杰;罗宇轩 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张大威
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 指纹 细节 集合 量化 描述 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种指纹细节点集合的向量化描述方法,其特征在于,包括以下步骤:

从原始指纹图像中提取指纹一级特征,并从所述指纹一级特征中选取参考点,所述指纹一级特征包括方向场和周期图;

根据所述参考点将所述原始指纹图像转化到预定坐标系下的矫正图像;

从所述预定坐标系中提取预定邻域内的矫正图像的多个指纹细节点,并根据所述多个指纹细节点得到指纹细节点集合,其中,所述指纹细节点包括端点和分叉点;

对所述预定坐标系中预定邻域内的矫正图像进行采样,以获取多个采样点;

对每个所述采样点利用预定长度的描述向量表示,其中,所述描述向量的元素值由所述采样点在所述预定邻域内的所述指纹细节点的影响值累加获得;以及

将所述多个采样点的描述向量按照预定的次序组合以获取最终的指纹细节点集合的向量化描述。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述描述向量的长度与所述采样点的数目成正比。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述指纹细节点的影响值vm通过以下公式获得:

vm=wx·|xm-x|+wy·|ym-y|+wθ·|θm-θ|,

其中,x为所述采样点的x方向平移参数,y为所述采样点的y方向平移参数,θ为所述采样点的旋转参数,xm为所述预定邻域内的所述指纹细节点m的参数x方向平移参数,ym为所述预定邻域内的所述指纹细节点m的参数y方向平移参数,θm为所述预定邻域内的所述指纹细节点m的旋转参数,m∈(1,2,...,n),wx为x方向的权重系数,wy为y方向的权重系数,wθ为θ方向的权重系数。

4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述描述向量的元素值由所述采样点在所述预定邻域内的所述指纹细节点的影响值累加的公式表示为:

其中,Vmax为所述描述向量的元素值的最大取值,Vmin为所述描述向量的元素值的最小取值。

5.一种指纹细节点集合的向量化描述系统,其特征在于,包括:

矫正模块,用于从原始指纹图像提取指纹一级特征,并从所述指纹一级特征中选取参考点,并根据所述参考点将所述原始指纹图像转化到预定坐标系下的矫正图像,所述指纹一级特征包括方向场和周期图;

特征提取模块,用于提取所述矫正图像的多个指纹细节点,并根据所述多个指纹细节点得到指纹细节点集合,其中,所述指纹细节点包括端点和分叉点;

采样模块,用于在预定坐标系下的预定邻域内对所述矫正图像进行采样,以获取多个采样点;以及

指纹描述模块,用于对每个所述采样点利用预定长度的描述向量表示,将所述多个采样点的描述向量按照预定的次序组合以获取所述指纹细节点集合的向量化描述,其中,所述描述向量的元素值由所述采样点在所述预定邻域内的所述指纹细节点的影响值累加获得。

6.如权利要求5所述的系统,其特征在于,所述描述向量的长度与所述采样点的数目成正比。

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