[发明专利]一种哑光釉下彩抛釉砖的生产方法

权利要求书

1.一种哑光釉下彩抛釉砖的生产方法，其生产方法包括如下步骤：

(1)、制备底砖：选用白色的吸水率低于0.5％的成品砖坯做底砖；

(2)、底砖印花；

(3)、布施熔块层：在印好图案的砖上先喷涂一层憎水剂，然后再覆盖上有图案的熔块层，最后再喷涂上一层熔块颗粒粘结剂；

(4)、烧制：将印好花及覆盖上熔块层的砖放入窑炉烧制，表面熔块熔合成透明的玻璃体，熔块下面的图案颜色呈现出来；

(5)抛光：将烧成后的产品直接经过抛光机抛光，将表面的熔块抛平；所述抛光机由使用弹性模块作为抛光磨具抛光、使用研磨擦作为抛光磨具抛光和使用抛光片作为抛光磨具抛光依次进行抛光，使产品表面呈现哑光效果；

(6)将上述抛光后的产品进行磨边、分选、包装后得到最终的成品；

所述熔块颗粒粘结剂其按质量百分比计，含有如下组分：纤维素类增稠剂5.0-6.0％，凹凸棒土2.0-2.8％，消泡剂为1.1-1.4％，分散剂为1.2-1.8％，余量为溶剂。

2.根据权利要求1所述的哑光釉下彩抛釉砖的生产方法，其特征在于：所述纤维素类增稠剂为羟乙基纤维素、羟乙基甲基纤维素和羟丙基甲基纤维素中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的哑光釉下彩抛釉砖的生产方法，其特征在于：所述的分散剂为聚丙烯酸纳、有机硅改性磷酸钠和六偏磷酸钠中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的哑光釉下彩抛釉砖的生产方法，其特征在于：所述消泡剂为聚甲基硅氧烷。

5.根据权利要求1所述的哑光釉下彩抛釉砖的生产方法，其特征在于：所述溶剂为水、乙二醇和乙醇中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的哑光釉下彩抛釉砖的生产方法，其特征在于：在步骤(4)烧制温度为980-1000℃，时间为1.5-2小时。

7.根据权利要求1所述的哑光釉下彩抛釉砖的生产方法，其特征在于：所述憎水剂为有机硅憎水剂。