[发明专利]显示心形和箭头形图案的十边形钻石有效

专利信息
申请号: 201410490834.5 申请日: 2014-09-23
公开(公告)号: CN104510106B 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 罗尼·里德列维奇 申请(专利权)人: 全球钻石商标有限公司
主分类号: A44C17/00 分类号: A44C17/00
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司11243 代理人: 张敬强,丁文蕴
地址: 加拿大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 显示 箭头 图案 十边形 钻石
【说明书】:

技术领域

本发明是于2008年9月16日提交的美国专利申请序列号12/208,806的部分继续申请,其又是序列号11/744,571的部分继续申请,该每个申请的公开内容作为参考被引入此处,并且涉及切割钻石的领域,尤其涉及具有十边形的钻石,其适用于在暴露于光线下时产生基本上相当于通过理想的圆形切割钻石而产生的心形和箭头形图案的心形和箭头形图案。

背景技术

如下表1中教导的那样,当圆形切割钻石具有近乎完美的对称形状并且拥有被打磨为处于相对较窄的比例范围内的相等和对称的切割刻面时,会在暴露于光线下时通过该圆形切割钻石显示出心形和箭头形图案。具有心形和箭头形图案的近乎完美的圆形切割钻石提供了至今市场中任何其他形状的钻石都无法相比的明度、颜色和光学光处理性能。虽然钻石通常被切割成除了圆形以外的许多已知几何形状,例如,心形、椭圆形、梨形、马眼形、公主方形、祖母绿形等等,但是如今未知的是将钻石切割成十边形,其在暴露于光线下时会产生相当于通过近乎完美的对称圆形形状的圆形切割钻石而产生的心形和箭头形图案的心形和箭头形图案。

迄今为止,钻石工业中普遍认为仅有圆形切割钻石可以产生真正的心形和箭头形图案。这种信念主要基于如下事实:圆形切割钻石具有如此近乎完美的对称形状,其所有冠部和亭部刻面都可被轻易切割成相同角度,其所有亭部角度之间的角度差都小于0.3°,并且主冠部刻面之间的角度公差小于0.4°,并且副冠部刻面的角度公差小于0.3°。这导致钻石工业中被广泛接受的信念,即,仅有可能使用在圆形切割钻石中产生心形和箭头形图案的已知的窄的角度公差来在钻石上获得被打磨为模拟圆形钻石的近乎完美的对称形状的真正的心形和箭头形图案。

十边形钻石具有与圆形钻石截然不同的几何形状。因此,如果接受了仅有圆形切割钻石可以产生真正的心形和箭头形图案的被广泛接受的信念,则将钻石打磨成会产生相当于圆形切割钻石中心形和箭头形图案的心形和箭头形图案的十边形钻石就是难以置信的。

在圆形切割钻石中,仅当对其切割刻面、角度参数和对齐关系的要求如下表1中所示时,才会显现心形和箭头形图案:

表1

·钻石的形状完美对称。

·八个主冠部刻面和二十四个副冠部刻面。

·八个主底部刻面和十六个副底部刻面。

·所有主刻面(冠部和底部)都应被打磨为相互呈完美的45°角度。

·所有刻面都完美对齐。

·所有底部主刻面都是相同尺寸,并且为40.6°至41.0°范围内的角度。

·所有底部副刻面都是相同尺寸,并且为恰好比主刻面陡1.2°的角度(主底部角度40.6°至41.0°+副41.8°至42.2°)。

·所有主冠部刻面都是相同尺寸,并且为33.8°至35.1°范围内的角度。它们应在主底部刻面上完美对齐。

·所有副冠部刻面都是相同尺寸,并且在主冠部和副底部刻面上完美对齐及被打磨为相同角度。

·理想的切割比例是:总深度59.4%至62.4%

冠部高度14.5%至16.0%

腰部厚度1.5%至2.95%

圆度99.0%至100%

台尺寸53.0%至57.5%

发明内容

本发明的钻石被切割成十边形,其适用于在暴露于光线下时显示基本等同于圆形钻石中所显示的心形和箭头形图案的心形和箭头形图案。本发明的十边形切割钻石包括:十个主冠部刻面;十个主亭部刻面;二十个星形刻面,其中在每个主冠部刻面上打磨两个星形刻面;与亭部半刻面数量相等的冠部半刻面;十个副亭部半刻面;二十个副亭部刻面;以及十个主腰部刻面,其中腰部刻面被打磨为相对于彼此呈给定角度以形成钻石的十边形。

附图说明

当结合附图理解本发明的如下具体描述时,其他优势将是显而易见的,其中:

图1是本发明的十边形钻石的俯视图,示出在钻石的台刻面侧的十个主冠部刻面的对称布置;

图2是与图1相似的本发明的十边形钻石的另一俯视图,示出彼此相对的主冠部刻面的形式和对称布置;

图3是与图2相似的本发明的十边形钻石的又一俯视图,示出主冠部刻面和对应的主亭部刻面的形式和布置;

图4是与图2相似的本发明的十边形钻石的另外的俯视图,示出冠部星形刻面、冠部半刻面和主冠部刻面的布置和关系;

图5是本发明的十边形钻石的仰视图,示出围绕钻石的中心和底尖对称布置的十个主亭部刻面、二十个亭部半刻面、十个副亭部半刻面和二十个副亭部刻面之间的布置;

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