[发明专利]电极形成装置、电极形成系统、以及电极形成方法在审
申请号: | 201410491500.X | 申请日: | 2014-09-24 |
公开(公告)号: | CN104517872A | 公开(公告)日: | 2015-04-15 |
发明(设计)人: | 栗原弘邦;五十岚章雄;水鸟量介;后和昭典;桥本尚明 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/60 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 陈华成 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电极 形成 装置 系统 以及 方法 | ||
技术领域
本发明涉及将电极形成于基板的电极形成装置、电极形成系统、以及电极形成方法。
背景技术
在计算机、便携式电话、数字家电等中,搭载了BGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)这样的表面安装型的电子部件。在表面安装型的电子部件的背面,设置了多个半球状地形成了的电极(凸块)。通过这样在电子部件的背面设置电极,使与基板的接点数大幅增加,减小电子部件的安装面积而实现了小型化/高密度化。
在搭载有表面安装型的电子部件的基板中的、与电子部件的电极对应的部位,形成多个电极(凸块)。首先,经由在焊剂涂覆用的掩模中形成了的多个孔,将涂覆焊剂到基板。进而,经由在导电性球填充用的掩模中形成了的多个孔,在上述焊剂上填充导电性球。
例如,在专利文献1中,记载了在晶片上涂覆焊剂的焊剂涂覆装置、和在涂覆了焊剂的晶片上填充导电性球的球填充装置。
现有技术文献
【专利文献1】日本专利第4933367号公报
发明内容
期望在进行焊剂的涂覆、以及导电性球的填充时,在使基板与印刷平台紧贴了的状态下进行定位。
但是,关于搭载表面安装型的电子部件的基板,以IC芯片的保护等为目的,用树脂取模的情况较多。在使用这样的基板的情况下,由于与干燥相伴的树脂的收缩,基板有时变形而成为翘曲的状态。如果基板这样变形,则由于基板的刚性比较大,所以仅通过真空吸附难以使基板紧贴到印刷平台。
在上述专利文献1记载的发明中,在一台焊剂涂覆装置的下游侧,配置了一台球填充装置。在这样的结构中,例如,考虑在通过按压板将基板按压到印刷平台的状态下实施真空吸附,在维持了该真空吸附的状态下对基板涂覆焊剂。
但是,在专利文献1记载的结构中,在涂覆了焊剂之后,向下游侧的球填充装置输送基板时,不得不使上述真空吸附临时解除。
即使在解除了真空吸附之后,通过球印刷机重新使基板紧贴到印刷平台,也无法从该状态通过按压板向印刷平台推压基板。其原因是:在基板的上表面已经涂覆了焊剂。
这样,在专利文献1记载的发明中,有在球填充装置中无法使基板紧贴到印刷平台,无法使基板准确地定位的可能性。由此,存在无法在期望的位置填充导电性球,将电极形成于基板的处理的成品率变低这样的问题。这样的倾向随着导电性球的直径、间距变小,变得越发更显著。
因此,本发明的课题在于,提供一种提高了将电极形成于基板的处理的成品率的电极形成装置、电极形成系统、以及电极形成方法。
为了解决所述课题,本发明提供一种电极形成装置,其特征在于,具备:按压单元,针对印刷平台从上方按压基板;吸附单元,将由所述按压单元按压了的基板吸附到所述印刷平台,在利用所述按压单元进行的按压被解除了之后也继续进行该吸附;掩模部件,连结或者一体形成有用于对基板涂覆焊剂的第1掩模部、和用于对涂覆了焊剂的基板填充导电性球的第2掩模部;涂刷器头(squeegee head),针对由所述吸附单元吸附了的基板,经由所述第1掩模部涂覆焊剂;掩模部件移动单元,使所述掩模部件移动,调整所述掩模部件相对基板的相对位置;以及填充头,经由所述掩模部件中的所述第2掩模部,对由所述吸附单元吸附了的基板填充导电性球而形成电极。
另外,在具体实施方式中,说明详细情况。
根据本发明,能够提供提高了将电极形成于基板的处理的成品率的电极形成装置、电极形成系统、以及电极形成方法。
附图说明
图1是包括本发明的第1实施方式的电极形成装置的结构图,是从上方观察了装载机(loader)、电极形成装置、以及检查/修理装置的示意性的俯视图。
图2是图1的A-A向视剖面图。
图3是掩模部件的示意性的俯视图。
图4是图2的B-B向视端面图。
图5是电极形成装置的俯视图。
图6是图2的C-C向视端面图(在基板的正上方配置了填充头的状态的端面图)。
图7是示出电极形成装置的动作的流程的流程图。
图8是按照(a)→(b)→(c)→(d)→(e)的顺序以时间系列示出了电极形成装置的动作的示意性的剖面图。
图9是包括本发明的第2实施方式的电极形成装置的示意性的结构图(俯视图)。
符号说明
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造