[发明专利]功率半导体模块和用于制造功率半导体模块的方法有效
申请号: | 201410495957.8 | 申请日: | 2014-09-24 |
公开(公告)号: | CN104517952B | 公开(公告)日: | 2017-07-14 |
发明(设计)人: | A·阿伦斯;J·赫格尔;M·霍伊 | 申请(专利权)人: | 英飞凌科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L25/16 | 分类号: | H01L25/16;H01L23/498;H01L23/055;H01L21/60 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 郑立柱 |
地址: | 德国诺伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 功率 半导体 模块 用于 制造 方法 | ||
1.功率半导体模块(1),其包括:
电路板(10),所述电路板具有布置在所述电路板的顶面(10o)上的结构化的第一金属结构(12)和至少一个第二金属结构,所述第二金属结构在垂直的方向处于所述第一金属结构的下方、平行于所述第一金属结构布置并与所述第一金属结构绝缘;
至少一个无壳体的半导体芯片(20),所述半导体芯片布置在所述电路板(10)的所述顶面(10o)上,具有多个接触电极(22),所述多个接触电极(22)通过多条焊线(14)与所述第一金属结构(12)的相应的接触片(23)在所述电路板(10)的所述顶面(10o)上相连接,其中,所述多个接触电极(22)和所述相应的接触片(23)的第一部分在运行时为高电压导通的,并且其中,高电压导通的接触片通过内层连接与所述第二金属结构导电地连接;
绝缘层(30),所述绝缘层(30)完全覆盖所述芯片(20)和围绕所述芯片(20)的所述电路板(10)的分隔区域(31);
其中,所述高电压导通的接触片(23)和所述内层连接被所述绝缘层(30)完全覆盖;并且
其中,所述多个接触电极(22)和所述相应的接触片(23’)的第二部分在运行时处于低电压。
2.根据权利要求1所述的功率半导体模块,其中,所述电路板(10)安装在具有至少一个布置在其上的功率半导体元件(6)的功率半导体衬底(5)上,其中,处于所述电路板(10)的底面(10u)上的结构化的金属结构与所述功率半导体衬底(5)和/或所述功率半导体元件(6)导电地连接。
3.根据前述权利要求中任一项所述的功率半导体模块,其中,至少另一个SMD元件布置在所述电路板(10)的所述顶面(10o)和/或所述底面(10u)上。
4.根据权利要求3所述的功率半导体模块,其中,多个附加的元件安装在所述电路板(10)的所述顶面(10o)上,并且围绕所述多个元件的所述电路板(10)的分隔区域(31)被所述绝缘层(30)完全覆盖。
5.用于制造功率半导体模块的方法,其包括以下步骤:
为电路板(10)提供顶面(10o)和底面(10u),其中,在所述顶面和所述底面上布置结构化的金属结构(12);
为至少一个布置在所述电路板(10)的顶面(10o)上的无壳体的半导体芯片(20)提供多个接触电极(22),所述多个接触电极(22)通过多条焊线(14)与所述结构化的金属结构(12)的相应的接触片(23)在所述电路板(10)的所述顶面(10o)上相连接,其中,所述接触电极(22)和所述相应的接触片(23)的第一部分在运行时为高电压导通的,并且其中,所有高电压导通的接触片(23)通过内层连接与所述结构化的金属结构(12)在所述底面(10u)上或者内层上导电地连接;以及
施加绝缘层(30),所述绝缘层(30)完全覆盖所述芯片和围绕所述芯片(20)的所述电路板(10)的分隔区域(31),其中,所有高电压导通的接触片(23)和所述内层连接被所述绝缘层(30)完全覆盖。
6.根据权利要求5所述的方法,进一步包括:
提供功率半导体衬底(5);
提供功率半导体元件(6)并且将所述功率半导体元件(6)施加在所述功率半导体衬底(5)上;
在所述功率半导体衬底(5)上施加所述电路板(10),其中,处于所述电路板(10)的所述底面(10u)上的所述结构化的金属结构(12)与所述功率半导体衬底(5)和/或所述功率半导体元件(6)导电地连接。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,进一步包括:
提供至少另一个功率半导体元件(6)并且将其施加在所述电路板(10)的所述顶面(10o)和/或所述底面(10u)上。
8.根据权利要求7所述的方法,进一步包括:
施加绝缘层(30),所述绝缘层(30)完全覆盖所述另一个功率半导体元件(6)和围绕所述功率半导体元件(6)的所述电路板(10)的分隔区域(31)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司,未经英飞凌科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410495957.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类