[发明专利]光学装置、投影光学系统、曝光装置及物品的制造方法

权利要求书

1.一种用于使镜的反射面变形的光学装置，该光学装置包括：

底板；

多个第一致动器，其各自具有连接到与所述镜的所述反射面相背对的面的第一端子以及连接到所述底板的第二端子，并且所述多个第一致动器被构造为通过改变所述第一端子与所述第二端子之间的距离以使所述镜的反射面变形，来向与所述反射面相背对的面施加力；

多个第二致动器，其各自具有比所述第一致动器低的刚度，布置在所述镜与所述底板之间，并且所述多个第二致动器被构造为向与所述反射面相背对的面施加力以使所述镜的反射面变形，其中，所述多个第二致动器中的各个包括彼此不接触的定子和可动元件，并且所述定子和所述可动元件中的一个被固定至所述镜，并且另一个被固定至所述底板；

多个传感器，其被构造为检测表示所述多个第一致动器的驱动状态的信息；以及

控制单元，其被构造为基于由所述多个传感器检测到的信息，确定所述多个第一致动器中的各个的驱动命令值和所述多个第二致动器中的各个的驱动命令值，以使所述反射面的形状改变为目标形状，并且基于所确定的驱动命令值，对所述多个第一致动器中的各个的驱动以及所述多个第二致动器中的各个的驱动进行控制，其中，所述多个第一致动器以在相邻的第一致动器之间布置有所述多个第二致动器中的至少一个的方式彼此分开布置。

2.根据权利要求1所述的光学装置，所述光学装置还包括：

固定构件，其被构造为将所述镜的一部分固定至所述底板。

3.根据权利要求1所述的光学装置，其中，所述多个第二致动器中的各个被构造为驱动可动元件，所述可动元件包括连接到所述镜的弹性构件。

4.根据权利要求1所述的光学装置，其中，所述多个传感器包括位移传感器，所述位移传感器被构造为检测所述多个第一致动器中的各个的所述第一端子与所述第二端子之间的位移，作为表示所述驱动状态的信息。

5.根据权利要求1所述的光学装置，其中，所述多个传感器中的各个包括力传感器，所述力传感器被构造为检测由所述多个第一致动器中的各个施加至与所述反射面相背对的面的力，作为表示所述驱动状态的信息。

6.根据权利要求1所述的光学装置，所述光学装置还包括：

基准板，其布置在所述镜与所述底板之间，

其中，所述多个传感器中的各个检测所述基准板与所述镜之间的距离，作为表示所述驱动状态的信息。

7.根据权利要求1所述的光学装置，其中，所述控制单元包括用于将被施加至与所述反射面相背对的面的力转换为所述反射面的位移量的柔度矩阵，并且以将所述反射面改变为所述目标形状的方式，基于所述柔度矩阵，确定所述多个第一致动器中的各个的所述驱动命令值以及所述多个第二致动器中的各个的所述驱动命令值。

8.根据权利要求7所述的光学装置，其中，所述控制单元基于当依次驱动包括所述多个第一致动器和所述多个第二致动器的多个致动器时的所述反射面的形状，生成所述柔度矩阵。

9.一种用于将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统，该投影光学系统包括：

根据权利要求1至8中任一项中所述的光学装置。

10.一种用于对基板进行曝光的曝光装置，该曝光装置包括：

根据权利要求9所述的投影光学系统。

11.一种物品的制造方法，该物品的制造方法包括以下步骤：

使用曝光装置对基板进行曝光；

使所曝光的基板显影；以及

对所显影的基板进行处理以制造所述物品，

其中，用于对所述基板进行曝光的所述曝光装置包括具有光学装置的投影光学系统，

其中，用于使镜的反射面变形的所述光学装置包括：

底板；

多个第一致动器，其各自具有连接到与所述镜的所述反射面相背对的面的第一端子以及连接到所述底板的第二端子，并且所述多个第一致动器被构造为通过改变所述第一端子与所述第二端子之间的距离以使所述镜的反射面变形，来向与所述反射面相背对的面施加力；

多个第二致动器，其各自具有比所述第一致动器低的刚度，布置在所述镜与所述底板之间，并且所述多个第二致动器被构造为向与所述反射面相背对的面施加力以使所述镜的反射面变形，其中，所述多个第二致动器中的各个包括彼此不接触的定子和可动元件，并且所述定子和所述可动元件中的一个被固定至所述镜，并且另一个被固定至所述底板；

多个传感器，其被构造为检测表示所述多个第一致动器的驱动状态的信息；以及

控制单元，其被构造为基于由所述多个传感器检测到的信息，确定所述多个第一致动器中的各个的驱动命令值和所述多个第二致动器中的各个的驱动命令值，以使所述反射面的形状改变为目标形状，并且基于所确定的驱动命令值，对所述多个第一致动器中的各个驱动以及所述多个第二致动器中的各个的驱动进行控制，其中，所述多个第一致动器以在相邻的第一致动器之间布置有所述多个第二致动器中的至少一个的方式彼此分开布置。