[发明专利]一种提高清洗效率的方法

权利要求书

1.一种提高机台清洗效率的方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一机台，所述机台包括有一腔室；

在所述反应腔室内通入第一气体的同时，通入含氧等离子体；

通入惰性气体，以提升腔室内气体均匀性；

通入第二气体，并进行多次充气和抽气的循环处理；

通入NxHy气体。

2.如权利要求1所述的提高机台清洗效率的方法，其特征在于，所述机台为CVD机台。

3.如权利要求1所述的提高机台清洗效率的方法，其特征在于，所述第一气体为含F元素的刻蚀气体。

4.如权利要求3所述的提高机台清洗效率的方法，其特征在于，所述含F元素的刻蚀气体为CF₄或NF₃。

5.如权利要求1所述的提高机台清洗效率的方法，其特征在于，所述含氧等离子体为含O₃的等离子体。

6.如权利要求5所述的提高机台清洗效率的方法，其特征在于，所述含O₃的等离子体为O₃等离子体或O₃和O₂混合的等离子体。

7.如权利要求6所述的提高机台清洗效率的方法，其特征在于，采用如下方法通入所述含O₃等离子体：

在腔室外生成含O₃的等离子体，然后将所述含O₃的等离子体通入所述腔室；或

将含O₃的气体直接通入腔室，并进行等离子处理，以在腔室内生成含O₃的等离子体。

8.如权利要求1所述的提高机台清洗效率的方法，其特征在于，所述惰性气体为He气体。

9.如权利要求1所述的提高机台清洗效率的方法，其特征在于，所述第二气体为N₂。

10.如权利要求1所述的提高机台清洗效率的方法，其特征在于，所述NxHy气体为N₂H₂气体。