[发明专利]射频输送路径的阻抗的控制

权利要求书

1.一种等离子体系统，其包括：

射频(RF)发生器；

匹配盒，其包括阻抗匹配电路，该阻抗匹配电路经由射频电缆联接到所述射频发生器；

等离子体反应器，其经由射频供应路径的一部分联接到所述匹配盒，所述等离子体反应器包括卡盘，所述射频供应路径从所述射频发生器延伸通过所述匹配盒并且延伸到所述卡盘；

相位调节电路，其联接到所述阻抗匹配电路与所述卡盘之间的所述射频供应路径的所述部分，所述相位调节电路具有联接到所述射频供应路径的所述部分上的连接点的第一端和接地的第二端；以及

控制器，其联接到所述相位调节电路，所述控制器用于根据调节配方改变所述相位调节电路的参数以控制所述射频供应路径的阻抗。

2.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述阻抗匹配电路使所述射频发生器和射频电缆系统的阻抗与所述等离子体反应器和射频传输线的阻抗匹配，所述射频供应路径的所述部分包括所述射频传输线的射频棒，所述射频传输线将所述阻抗匹配电路联接到所述等离子体反应器，所述射频传输线包括包围所述射频棒的接地的射频通道，所述射频电缆系统包括所述射频电缆和射频电缆护套。

3.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述等离子体反应器包括下电极和上电极，所述上电极面对所述下电极，所述阻抗匹配电路被配置成提供射频信号到所述相位调节电路，所述相位调节电路被配置成调节所述射频信号的阻抗以产生另一个射频信号，进而经由所述射频供应路径的所述部分提供到所述等离子体反应器，且当所述下电极接收来自所述相位调节电路的该另一个射频信号时所述等离子体反应器被配置成在所述等离子体反应器内形成等离子体。

4.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述射频供应路径的所述部分包括射频棒，其中所述射频棒被接地的射频通道包围。

5.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述相位调节电路包括可变电容器、或可变电感器、或它们的组合。

6.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述相位调节电路经由连接件联接到所述射频供应路径，其中所述连接点在射频带与所述阻抗匹配电路的输出之间。

7.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述相位调节电路经由连接点联接到所述射频供应路径，其中所述连接点位于第一射频带与第二射频带之间，其中所述第一射频带联接到所述阻抗匹配电路的输出，其中所述第二射频带联接到射频棒，其中所述射频供应路径的所述部分包括所述射频棒。

8.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述射频供应路径的所述部分包括射频棒，其中所述相位调节电路经由连接点联接到所述射频供应路径，其中所述连接点在所述射频棒与射频带之间，所述射频带经由另一个射频带联接到所述阻抗匹配电路的输出。

9.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述射频供应路径的所述部分包括射频棒，其中所述等离子体反应器包括连接到所述卡盘的射频圆柱体，其中所述相位调节电路经由连接点联接到所述射频供应路径，其中所述连接点在所述射频圆柱体上，所述射频圆柱体经由射频耦接件联接到所述射频棒。

10.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述匹配盒具有壳体，所述相位调节电路位于所述壳体外。

11.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述射频供应路径的所述部分包括射频棒，其中所述匹配盒具有壳体，所述相位调节电路位于所述壳体内并且联接到位于所述壳体内的射频带，所述射频带将所述阻抗匹配电路联接到所述射频棒。

12.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述射频供应路径的所述部分包括射频棒，其中所述射频供应路径包括联接到所述阻抗匹配电路的一个或多个射频带，其中所述等离子体反应器包括射频圆柱体，其中所述射频棒经由射频耦接件联接到所述射频圆柱体，其中所述射频供应路径进一步包括所述射频耦接件和所述射频圆柱体，其中所述射频圆柱体联接到所述卡盘。

13.根据权利要求1所述的等离子体系统，其中所述阻抗取决于所述相位调节电路的电容、或电感、或它们的组合。