[发明专利]一种镜面控制系统

权利要求书

1.一种大口径超薄自适应副镜控制系统，其特征在于，包括副镜涂电容，副镜面型检测电路，主控电路，副镜调整电路，音圈电机，实时通信电路和电源电路，其中音圈电机的一输出端连接所述副镜涂电容的一极，

所述副镜面型检测电路的两输入端连接副镜涂电容两端，用于测量表征副镜形变量的副镜涂电容的电容量大小，并将电容量大小数据的输出端连接主控电路的一输入端；

所述主控电路用于根据表征副镜形变量的电容量大小对镜面形变信息进行分析产生控制信号输出至副镜调整电路；

所述副镜调整电路用于根据主控电路的控制信号控制音圈电机上导通电流大小方式来控制音圈电机的吸合力，从而控制副镜面型；

所述实时通信电路用于向上位机实时报告目前的测量数据以及系统运行状态；

所述电源电路用于提供整个系统的工作电压。

2.根据权利要求1所述的大口径超薄自适应副镜控制系统，其特征在于，所述副镜涂电容的具体设置方式为，在副镜的薄镜面背面镀一层金属膜作为电容的一极，在副镜的镜面后面的微晶玻璃参考基板上镀另一层金属膜作为电容的另一极，两个极之间的距离为0.05mm-0.15mm。

3.根据权利要求1或2所述的大口径超薄自适应副镜控制系统，其特征在于，所述音圈电机的具体设置方式为，一块磁铁黏合在副镜面上，音圈电机固定在其正上方的微晶玻璃参考基板上，磁铁和音圈电机中间隔空，距离为0.05mm-0.15mm。

4.根据权利要求1或2所述的大口径超薄自适应副镜控制系统，其特征在于，所述主控电路包括主控芯片STM32、8MHz无源晶振Y1、第六二极管D6、第十瓷片电容C10、第十一瓷片电容C11和第十二瓷片电容C12、第二十三贴片电阻R23和一个按键开关S1，其中C10和C11分别一端连Y1，一端接地；D6和R23两端分别并联，一端到3.3V电压端，另一端到C12和S1的一端，C12和S1另一端都连接至地；STM32的4脚和5脚分别连接Y1的两端；STM32的7脚连至D6的阴极；8脚、44、47脚连接到地；9脚、24脚、36和48脚连接到3.3V电压端；13脚、14脚、15脚、16脚、17脚分别连至副镜面型检测电路；STM32的21脚、22脚、26脚、28脚和45脚、41脚、42脚和43脚连到副镜面型调整电路。

5.根据权利要求1或2所述的大口径超薄自适应副镜控制系统，其特征在于，所述副镜面型检测电路部分包括一块电容数字转换芯片PCAP01AD，第八电阻R8和第九电阻和R9，基准电容C16，以及去耦瓷片电容C13，其中PCAP01AD的1脚、10脚和25脚连接去耦瓷片电容C13的阳极到地，PCAP01AD的6脚和19脚连到3.3V电源；PCAP01AD的16脚连接主控模块；PCAP01AD的20、21、22、23脚分别连主控模块；PCAP01AD的24和33脚连接到地；PCAP01AD的26脚经过第八电阻连接到地；PCAP01AD的27和28连接基准电容的两端，29和30连接待测电容副镜涂电容的两端。

6.根据权利要求1或2所述的大口径超薄自适应副镜控制系统，其特征在于，所述副镜调整电路进一步包括数模转换模块，电压跟随模块，电流驱动模块和电压检测模块，所述数模转换模块将主控电路输出的控制信号转换成第一电压信号，经过电压跟随模块隔离输出第二电压至音圈电机两端，同时输入音圈电机的电流由5V电压源经电流驱动模块提供，采用电压检测模块对电磁两端电压进行采集从而得到真实的电流大小，和主控模块预期想要产生的电流比较进行进一步的控制。

7.根据权利要求6所述的大口径超薄自适应副镜控制系统，其特征在于，所述数模转换模块的主芯片为16位数模转换器AD5668。

8.根据权利要求6所述的大口径超薄自适应副镜控制系统，其特征在于，所述电压跟随模块402的主芯片为高速运算放大器OPA890。

9.根据权利要求6所述的大口径超薄自适应副镜控制系统，其特征在于，所述电流驱动模块的主芯片为低压贴片场效应管FDS9926。

10.根据权利要求6所述的大口径超薄自适应副镜控制系统，其特征在于，所述电压检测模块的主芯片为16位模数转换器AD7694。