[发明专利]干涉滤波器、光学滤波器装置、光模块以及电子设备有效

专利信息
申请号: 201410505073.6 申请日: 2014-09-26
公开(公告)号: CN104516040B 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: 新东晋;佐野朗 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B26/00;G01J3/46;G01N21/65;G01N21/3504
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 干涉 滤波器 光学 装置 模块 以及 电子设备
【说明书】:

本发明涉及干涉滤波器、光学滤波器装置、光模块以及电子设备。波长可变干涉滤波器(5)具备:固定基板;固定反射膜,设置于固定基板的与可动基板相对的整个面上,由多层膜构成;可动反射膜,与固定反射膜相对;以及第一镜电极,设置在固定反射膜上。

技术领域

本发明涉及干涉滤波器、光学滤波器装置、光模块以及电子设备。

背景技术

以往,已知有如下的干涉滤波器(例如,参照专利文献1):具有一对相互相对的反射膜,并通过改变此反射膜间的距离(间隙尺寸),从而从测量对象的光选择规定波长的光并使其射出。

在此专利文献1记载的干涉滤波器中,在两块光学基板相对的面上设置一对反射膜,并在各光学基板的反射膜的外侧设置电容电极。

【现有技术文献】

【专利文献】

专利文献1:日本特开2002-277758号公报

可是,在专利文献1记载的干涉滤波器中,例示出金属膜与电介质多层膜作为反射膜。此处,当使用电介质多层膜作为反射膜时,一般,在光学基板形成剥离图案(lift-offpattern)后,形成电介质多层膜,并通过施行剥离,从而在光学基板的规定位置形成反射膜。

但是,当通过如此的剥离形成电介质多层膜时,会存在需要施行剥离图案的形成工序以及剥离工序而引起制造效率降低这样的问题。另外,通过剥离形成的电介质多层膜的侧面(端面)相对于与光学基板对应的上表面成为直角。此种情况下,例如,在反射膜上设置电极,当形成此电极的引线直至光学基板的外围部时,在电介质多层膜的端面,也会发生引线断线的风险。

发明内容

本发明的目的在于提供可以实现制造效率的提高且降低断线的风险的干涉滤波器、光学滤波器装置、光模块以及电子设备。

本发明的干涉滤波器的特征在于,具备:基板;第一反射膜,设置于所述基板的一个面,且由多个层构成;第二反射膜,与所述第一反射膜相对;以及电极,设置于所述第一反射膜上,所述第一反射膜包括与所述第二反射膜相对的区域,且所述第一反射膜设置于从该区域至所述基板的外周缘的区域。

在本发明中,第一反射膜包括与第二反射膜相对的区域,并设置至基板的外周缘。即,在基板的一侧的整个面上设置有由多个层构成的第一反射膜,在此第一反射膜上设置有电极。如此结构中,与在规定位置形成第一反射膜时相比,可以实现第一反射膜的形成工序的简化。即,当对基板的规定位置设置包括电介质多层膜的反射膜时,对反射膜的形成位置形成剥离图案后,形成电介质多层膜的反射膜,并在此后,需要施行剥离而去除不需要的部分的工序。对此,在本发明中,不需要剥离图案的形成、剥离工序,从而提高制造效率。

另外,在如上述通过剥离形成的反射膜的最表面设置电极且形成用于向此电极赋予电信号的连接电极至基板外围时,因为需要在电介质多层膜的端面形成连接电极或电极,所以断线的风险变高。对此,在本发明中,在第一反射膜上设置电极,由于在第一反射膜的端面不需要附着电极、连接电极,所以没有如上述断线的风险。另外,基板通过蚀刻等的加工处理,从而即使在基板表面发生凹凸(由于平面差异等的边缘、陡坡)时,如果在基板表面形成由多个层构成第一反射膜,则第一反射膜的表面成为平缓的曲面状的斜面。因此,如果在此第一反射膜上形成电极,则可以抑制上述断线等的风险。

在本发明的干涉滤波器中,优选所述第一反射膜具备第一区域,所述第一区域隔着规定的间隙与所述第二反射膜相对,所述电极具备透光性的镜电极和镜连接电极,在从设置有所述第一反射膜的面的法线方向俯视观察所述基板时,所述镜电极与所述第一区域重叠,所述镜连接电极从所述镜电极的外周缘设置至所述第一反射膜的所述第一区域外的规定位置。

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