[发明专利]高单体含量的分子印迹整体柱与制备方法有效
申请号: | 201410507521.6 | 申请日: | 2014-09-28 |
公开(公告)号: | CN104258832A | 公开(公告)日: | 2015-01-07 |
发明(设计)人: | 刘照胜;黄艳萍;李秀媛;陈秀秀;钟丹丹 | 申请(专利权)人: | 天津医科大学 |
主分类号: | B01J20/285 | 分类号: | B01J20/285;B01J20/30;G01N30/60;G01N30/56 |
代理公司: | 天津市杰盈专利代理有限公司 12207 | 代理人: | 王小静 |
地址: | 300070 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 单体 含量 分子 印迹 整体 制备 方法 | ||
1.一种高单体含量的分子印迹整体柱,其特征在于:它的原料的质量组成:
模板分子 1.8 - 4 %
甲基丙烯酸甲酯 0.1 - 5.22 %
4-乙烯基吡啶 4-4.5 %
偶氮二异丁腈 0.30-0.32 %
二甲基丙烯酸乙二醇酯65-68%
1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐15 -20 %
二甲基亚砜 2 -7 %
所述的模板分子为萘普生或酮洛芬。
2.一种高单体含量的分子印迹整体柱,其特征在于:它的原料的质量组成:
萘普生或酮洛芬 1.96 - 3.82 %
甲基丙烯酸甲酯 2- 5.22 %
4-乙烯基吡啶 4.37-4.48 %
偶氮二异丁腈 0.31-0.32 %
二甲基丙烯酸乙二醇酯66-68%
1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐14.89 -19.18 %
二甲基亚砜 2.56 -6.54 %。
3.按照权利要求1或2所述的分子印迹整体柱,其特征在于所述的萘普生为 2.44 %。
4.按照权利要求1或2所述的分子印迹整体柱,其特征在于所述的酮洛芬为3.82 %。
5.按照权利要求1或2所述的分子印迹整体柱,其特征在于所述的甲基丙烯酸甲酯为3.39 %。
6.按照权利要求1或2所述的分子印迹整体柱,其特征在于所述的1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐为16-17 %。
7.一种权利要求1或2所述的高单体含量分子印迹整体柱的制备方法,其特征在于包括下列步骤:
1)按计量将模板萘普生,辅助单体甲基丙烯酸甲酯,功能单体4-乙烯基吡啶,引发剂偶氮二异丁腈,交联剂二甲基丙烯酸乙二醇酯,溶于致孔剂为离子液体1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐、二甲基亚砜的混合致孔剂溶液中;超声溶解30 min,使之溶解、澄清,除去液体中氧气,再将预聚合物注入不锈钢柱中,将两端封住,于60 ℃水浴中反应1-1.5 h;
2)将反应好的柱子连于HPLC的高压泵上,先用乙腈冲洗,除去整体柱中残留的致孔剂及可溶性物质,流速由0.1 mL/min逐渐升至0.6 mL/min,冲够100 mL后换成甲醇/乙酸,v/v, 9/1, 混合溶液150 mL冲洗除去模板分子,最后使用流动相将系统平衡至基线水平。
8.按照权利要求7所述的制备方法,其特征在于步骤1)中的不锈钢柱为100 × 4.6 mm I.D.。
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