[发明专利]一种Ca和Si共掺杂的TiO2膜

权利要求书

1.一种Ca和Si共掺杂的TiO₂膜，其特征在于，所述Ca和Si共掺杂的TiO₂膜中Ca的原子百分含量为0.4％～0.8％，Si的原子百分含量为2.0％～3.0％，所述Ca和Si共掺杂的TiO₂膜与水的接触角小于28°；所述Ca和Si共掺杂的TiO₂膜的制备方法包括以下步骤：

步骤一、将基体依次用280目、600目和1200目碳化硅砂纸打磨光亮，然后依次采用乙醇和丙酮清洗并烘干；所述基体为钛基体或钛合金基体；

步骤二、将步骤一中烘干后的基体作为阳极，铂片作为阴极，然后将基体和铂片同时置于电解液中，在电压为20V～80V，电解液温度为10℃～30℃的条件下阳极氧化处理0.5h～8h，得到Ca和Si共掺杂的TiO₂膜；每升所述电解液中含有5g～20g草酸钠，3g～8g磷酸二氢钠，1g～3g硅酸钠和3g～8g氢氧化钙，余量为水；或者每升所述电解液中含有5g～20g草酸钠，0.5g～2g氟化铵，1g～3g硅酸钠和3g～8g氢氧化钙，余量为水。

2.根据权利要求1所述的一种Ca和Si共掺杂的TiO₂膜，其特征在于，步骤二中所述电压为50V～60V，电解液温度为15℃～25℃，阳极氧化处理的时间为3.5h～5.5h。

3.根据权利要求1所述的一种Ca和Si共掺杂的TiO₂膜，其特征在于，当步骤二中所述电解液中含有磷酸二氢钠时，所制备的Ca和Si共掺杂的TiO₂膜为致密膜。

4.根据权利要求3所述的一种Ca和Si共掺杂的TiO₂膜，其特征在于，所述致密膜的厚度为3μm～5μm。

5.根据权利要求1所述的一种Ca和Si共掺杂的TiO₂膜，其特征在于，当步骤二中所述电解液中含有氟化铵时，所制备的Ca和Si共掺杂的TiO₂膜为多孔膜。

6.根据权利要求5所述的一种Ca和Si共掺杂的TiO₂膜，其特征在于，所述多孔膜的孔径为30nm～50nm，厚度为3μm～5μm。