[发明专利]大视场投影光刻物镜有效
申请号: | 201410510035.X | 申请日: | 2014-09-28 |
公开(公告)号: | CN105527701B | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 卢丽荣 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/06 | 分类号: | G02B13/06;G02B13/00;G02B1/00;G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 大视场投影 高透材料 光刻物镜 放大倍率 透过率 透镜组 易加工 畸变 视场 物镜 像散 | ||
1.一种大视场投影光刻物镜,包括:由依次排列的四组透镜组构成,分别为第一透镜组G1、第二透镜组G2、第三透镜组G3及第四透镜组G4,其中,第二透镜组G2用于校正球差和色差,第三透镜组G3用于校正像散和场曲,第四透镜组G4用于校正倍率,四组透镜组的透镜采用I线折射率大于1.56且阿贝数小于45的第一种材料、I线折射率小于1.55且阿贝数大于62的第二种材料或I线折射率小于1.55且阿贝数小于70的第三种材料,且每组透镜组中至少一片透镜采用所述第一种材料或第二种材料;所述第一透镜组G1由四片透镜构成,光焦度分别为正、负、正和正。
2.如权利要求1所述的大视场投影光刻物镜,其特征在于,所述第一透镜组G1满足1.03<|fel_max/fG1|<1.77,其中,fel_max为第一透镜组G1内光焦度最大的透镜的焦距,fG1为第一透镜组G1的焦距。
3.如权利要求2所述的大视场投影光刻物镜,其特征在于,所述第二透镜组G2由七片透镜构成,光焦度依次为正、负、正、正、正、负和负。
4.如权利要求3所述的大视场投影光刻物镜,其特征在于,所述第一透镜组G1和第二透镜组G2满足0.6<|fG2/fG1|<2.4,其中,fG1为第一透镜组G1的焦距,fG2为第二透镜组G2的焦距。
5.如权利要求4所述的大视场投影光刻物镜,其特征在于,所述第二透镜组G2至少包含两对相邻的正负透镜组合,所述第二透镜组G2包含第一子透镜组G20,所述第一子透镜组G20由三片透镜组成,分别为第五透镜L5、第六透镜L6及第七透镜L7,用于校正球差和色差。
6.如权利要求5所述的大视场投影光刻物镜,其特征在于,所述第五透镜L5、第六透镜L6及第七透镜L7之间的空气间隙小于1.5mm。
7.如权利要求6所述的大视场投影光刻物镜,其特征在于,所述第一子透镜组G20满足1200mm<fG20<2200mm,f6=-1.62f7=-2.11f5,f6<0,0<f7,0<f5,且满足3.2<|fG20/fG2|<4.14,并且相邻透镜的间距满足小于0.1mm大于3mm,其中,fG20为第一子透镜组G20的焦距,f5、f6、f7分别为第五透镜L5、第六透镜L6及第七透镜L7的焦距,fG2为第二透镜组G2的焦距。
8.如权利要求3所述的大视场投影光刻物镜,其特征在于,所述第二透镜组G2内至少包含一组凹面相同的透镜。
9.如权利要求4所述的大视场投影光刻物镜,其特征在于,所述第三透镜组G3由9片透镜构成,光焦度依次为负、负、正、负、正、负、正、正和负。
10.如权利要求9所述的大视场投影光刻物镜,其特征在于,所述第三透镜组G3还包括一对弯月式透镜,而且方向相反。
11.如权利要求10所述的大视场投影光刻物镜,其特征在于,所述第三透镜组G3包含第二子透镜组G30和第三子透镜组G31,所述第二子透镜组G30和第三子透镜组G31的光焦度均为负,所述第二子透镜组G30内至少包括一组凹面相对的透镜和两个位置相邻且光焦度正负透镜组合。
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