[发明专利]一种优化镍基单晶高温合金N5性能的梯度涂层方法在审

专利信息
申请号: 201410512505.6 申请日: 2014-09-29
公开(公告)号: CN105525259A 公开(公告)日: 2016-04-27
发明(设计)人: 王晓芳 申请(专利权)人: 王晓芳
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/58;C23C14/16
代理公司: 贵阳中新专利商标事务所 52100 代理人: 吴无惧
地址: 550025 贵*** 国省代码: 贵州;52
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 优化 镍基单晶 高温 合金 n5 性能 梯度 涂层 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种优化镍基单晶高温合金N5性能的梯度涂层方法,属于合金性能优化技术领域。

背景技术

电弧离子镀由于其高离化率、高能量密度、高生产效率、低能耗、低成本等特点,在制备高结合强度、高致密组织的优质MCrAlY涂层和实现工业化生产等方面已显示出了其优势。电弧离子镀MCrAlY涂层已应用于航空发动机中涡轮叶片的防护,而其发展前景也被普遍看好。

高温防护涂层的性能及使用寿命,与涂层的厚度和涂层中储Al相的多少有着直接关系,涂层愈厚,储Al相愈多,涂层的使用寿命就会相应增加。然而,涂层中的Al含量提高到一定程度后,涂层的脆性增加、熔点较低,严重影响涂层的使用性能,而且要制备出高Al含量的电弧离子镀靶材也是比较困难的。

发明内容

本发明要解决的问题:提供一种优化镍基单晶高温合金N5性能的梯度涂层方法,旨在提高合金涂层性能,以满足工业要求。

本发明的技术方案:

一种优化镍基单晶高温合金N5性能的梯度涂层方法,用镍基单晶高温合金N5做基体,用SiC砂纸逐级打磨至800号,对其进行200目玻璃丸湿喷,然后经金属洗涤剂、去离子水超声清洗,烘干;利用国产MIP-8-800型电弧离子镀设备沉积NiCoCrAlYSiB涂层和AlSiY涂层;将沉积后的两种试样在真空环境中进行扩散处理,升温速度控制在5℃/min,加热到900℃后保温4h,即得到退火态的普通涂层和梯度涂层。

所述的iCoCrAlYSiB涂层厚度为40μm。

所述的AlSiY涂层厚度为10μm。

本发明的有益效果:

1)采用电弧离子镀制备的普通NiCoCrAlYSiB涂层和NiCoCrAlYSiB+AlSiY梯度涂层在退火前后组织均匀致密,与基体结合良好。退火处理后,普通涂层是由γ′/γ相和弥散其中的点状β-NiAl相构成;梯度涂层分为两层,外层以β-(Ni,Co)Al相为主,还有少量的Cr3Si相和σ-NiCoCr,内层和普通涂层的结构相似。退火后的梯度涂层形成了外层富Al、内层富Cr的梯度分布。

2)普通涂层在1000℃下有较好的保护性能,再高温度时就会快速退化,表面逐渐生成了保护性较差的尖晶石相和混合氧化物,甚至出现严重的内氧化现象;梯度涂层在三个温度下均表现出良好的保护性能,1100℃度下氧化300h后仍有大量的β-NiAl相存在,1150℃下氧化300h后涂层Al含量仍在9wt.%左右,少量的β-NiAl相和过饱和的γ′/γ相维持表面氧化铝膜的形成和修复。

3)梯度涂层采用Al元素外高内低呈梯度分布的结构,不仅提高了涂层中Al含量,而且减缓了涂层中Al元素向基体中的的扩散;同时增加了涂层中Si和Y元素的含量,提高氧化膜的粘附性,大大减少了氧化膜的开裂和剥落,对延长涂层寿命有较大的帮助。

4)随着涂层中Al元素的消耗,涂层组织发生β-NiAl→β-Ni3Al→β-Ni的转变。当涂层中Al元素含量不高时,这种转变更快,相转变的同时伴随着体积收缩,在涂层内部以及涂层与基体的界面处就容易产生孔洞。孔洞会使涂层与基体的结合力下降;涂层与基体的互扩散区形成的空洞会降低体系的疲劳强度。普通涂层产生孔洞要早于梯度涂层,并且空洞数量也明显多于梯度涂层。

附图说明:

图1是沉积态的普通NiCoCrAlYSiB涂层和NiCoCrAlYSiB+AlSiY涂层的X射线衍射结果;

图2是退火态的普通涂层和梯度涂层的X射线衍射结果;

图3是普通NiCoCrAlYSiB涂层(a),(c)和NiCoCrAlYSiB+AlSiY涂层(b),(d)沉积态的表面SEM形貌(a),(b)和截面BSE形貌(c),(d);

图4是普通涂层(a),(c)和梯度涂层(b),(d)退火态的表面SEM形貌(a),(b)和截面BSE形貌(c),(d);

图5是退火处理后的梯度涂层截面元素EPMA分布图;

图6是梯度涂层退火后的截面元素面分布图。

具体实施方式:

实施例:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于王晓芳,未经王晓芳许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410512505.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top