[发明专利]一种光刻胶清洗液有效
申请号: | 201410514269.1 | 申请日: | 2014-09-29 |
公开(公告)号: | CN105527803B | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 刘兵;彭洪修;黄达辉;郑玢;孙广胜;张炜 | 申请(专利权)人: | 安集微电子(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人: | 李佳铭 |
地址: | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 清洗 | ||
1.一种光刻胶清洗液,含有水、醇胺、醇醚,其特征在于,所述光刻胶清洗液还包括连苯三酚及其衍生物和C3-C6多元醇,且所述的清洗液不含有氟化物、羟胺、环状胺和季胺氢氧化物;所述C3-C6多元醇为1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、丙三醇、苏糖醇、赤藓醇、核糖醇、阿拉伯糖醇、木糖醇、塔罗糖醇、山梨醇、甘露醇、艾杜糖醇和/或半乳糖醇;所述连苯三酚及其衍生物为连苯三酚、4-甲基连苯三酚、5-甲基连苯三酚、4-甲氧基连苯三酚、5-甲氧基连苯三酚、5-叔丁基连苯三酚、5-羟甲基连苯三酚、没食子酸、没食子酸甲酯和/或1-没食子酸甘油酯;所述C3-C6多元醇的含量为质量百分比0.1-5%;所述连苯三酚及其衍生物的含量为质量百分比0.1-10%;所述水的含量为质量百分比5-40%;所述醇醚的含量为质量百分比5-30%;所述醇胺的含量为质量百分比30-70%。
2.如权利要求1所述的光刻胶清洗液,其中,所述C3-C6多元醇的含量为质量百分比0.1-3%。
3.如权利要求1所述的光刻胶清洗液,其中,所述连苯三酚及其衍生物的含量为质量百分比0.5-8%。
4.如权利要求1所述的光刻胶清洗液,其中,所述水的含量为质量百分比10-35%。
5.如权利要求1所述的光刻胶清洗液,其中,所述醇醚为二乙二醇单烷基醚和/或二丙二醇单烷基醚。
6.如权利要求5所述的光刻胶清洗液中, 其中,所述二乙二醇单烷基醚为二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚和/或二乙二醇单丁醚;所述二丙二醇单烷基醚为二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚和/或二丙二醇单丁醚。
7.如权利要求1所述的光刻胶清洗液,其中,所述醇醚的含量为质量百分比10-25%。
8.如权利要求1所述的光刻胶清洗液,其中,所述醇胺为单乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和/或二甘醇胺。
9.如权利要求1所述的光刻胶清洗液,其中,所述醇胺的含量为质量百分比40-60%。
10.一种如权利要求1-9任一项所述的清洗液在去除光阻残留物的应用。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子(上海)有限公司,未经安集微电子(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410514269.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一体式电成型金属部件
- 下一篇:光刻工艺方法