[发明专利]发光器件有效
申请号: | 201410520307.4 | 申请日: | 2014-09-30 |
公开(公告)号: | CN104518058B | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | 朴赞槿 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | H01L33/06 | 分类号: | H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 张浴月;李玉锁 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体层 势垒层 中间层 带隙能量 源层 发光器件 阻挡层 阱层 掺杂 发光效率 | ||
1.一种发光器件,包括:
第一半导体层,掺杂有n型掺杂剂;
第二半导体层,掺杂有p型掺杂剂;
有源层,布置在所述第一半导体层与所述第二半导体层之间,所述有源层由InxAlyGa1-x-yN(0≤x≤1,0≤y≤1,0≤x+y≤1)形成并包括多个势垒层和多个阱层,所述阱层插在所述势垒层之间并具有比所述势垒层小的带隙能量;
中间层,插在所述有源层与所述第二半导体层之间,所述中间层由InaAlbGa1-a-bN(0≤a≤1,0≤b≤1,0≤a+b≤1)形成并具有比所述势垒层小的带隙能量;以及
阻挡层,布置在所述中间层与所述第二半导体层之间,所述阻挡层由InzAlwGa1-z-wN(0≤z≤1,0≤w≤1,0≤z+w≤1)形成并具有比所述势垒层和所述中间层中的每层大的带隙能量;以及
其中所述中间层与所述阻挡层相接触;
所述阱层和所述势垒层中的每层具有4至20nm的厚度;
所述中间层具有0.02至0.13的Al组成比。
2.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述有源层产生具有325nm至385nm的波长的UV光。
3.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述势垒层的Al含量高于所述阱层的Al含量并低于所述阻挡层的Al含量。
4.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述中间层的Al含量低于所述势垒层和所述阻挡层的Al含量并高于所述阱层的Al含量。
5.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述中间层掺杂有p型掺杂剂。
6.根据权利要求5所述的发光器件,其中所述中间层具有1E18至1E20cm-3的掺杂浓度。
7.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述中间层具有2nm至30nm的厚度。
8.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述阻挡层掺杂有p型掺杂剂。
9.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述阱层和所述势垒层交替布置,并且所述阱层的数量为3至5层。
10.根据权利要求1所述的发光器件,还包括:
第一电极,电连接到所述第一半导体层;以及
第二电极,电连接到所述第二半导体层。
11.根据权利要求1所述的发光器件,还包括:
透光电极层,布置在所述第二半导体层上。
12.根据权利要求1所述的发光器件,还包括:
衬底,布置在所述第一半导体层下方。
13.根据权利要求12所述的发光器件,其中所述衬底包括在所述衬底的上表面上的多个不规则部,以提高光提取效率。
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