[发明专利]发光器件有效

专利信息
申请号: 201410520307.4 申请日: 2014-09-30
公开(公告)号: CN104518058B 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 朴赞槿 申请(专利权)人: LG伊诺特有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 张浴月;李玉锁
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 半导体层 势垒层 中间层 带隙能量 源层 发光器件 阻挡层 阱层 掺杂 发光效率
【权利要求书】:

1.一种发光器件,包括:

第一半导体层,掺杂有n型掺杂剂;

第二半导体层,掺杂有p型掺杂剂;

有源层,布置在所述第一半导体层与所述第二半导体层之间,所述有源层由InxAlyGa1-x-yN(0≤x≤1,0≤y≤1,0≤x+y≤1)形成并包括多个势垒层和多个阱层,所述阱层插在所述势垒层之间并具有比所述势垒层小的带隙能量;

中间层,插在所述有源层与所述第二半导体层之间,所述中间层由InaAlbGa1-a-bN(0≤a≤1,0≤b≤1,0≤a+b≤1)形成并具有比所述势垒层小的带隙能量;以及

阻挡层,布置在所述中间层与所述第二半导体层之间,所述阻挡层由InzAlwGa1-z-wN(0≤z≤1,0≤w≤1,0≤z+w≤1)形成并具有比所述势垒层和所述中间层中的每层大的带隙能量;以及

其中所述中间层与所述阻挡层相接触;

所述阱层和所述势垒层中的每层具有4至20nm的厚度;

所述中间层具有0.02至0.13的Al组成比。

2.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述有源层产生具有325nm至385nm的波长的UV光。

3.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述势垒层的Al含量高于所述阱层的Al含量并低于所述阻挡层的Al含量。

4.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述中间层的Al含量低于所述势垒层和所述阻挡层的Al含量并高于所述阱层的Al含量。

5.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述中间层掺杂有p型掺杂剂。

6.根据权利要求5所述的发光器件,其中所述中间层具有1E18至1E20cm-3的掺杂浓度。

7.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述中间层具有2nm至30nm的厚度。

8.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述阻挡层掺杂有p型掺杂剂。

9.根据权利要求1所述的发光器件,其中所述阱层和所述势垒层交替布置,并且所述阱层的数量为3至5层。

10.根据权利要求1所述的发光器件,还包括:

第一电极,电连接到所述第一半导体层;以及

第二电极,电连接到所述第二半导体层。

11.根据权利要求1所述的发光器件,还包括:

透光电极层,布置在所述第二半导体层上。

12.根据权利要求1所述的发光器件,还包括:

衬底,布置在所述第一半导体层下方。

13.根据权利要求12所述的发光器件,其中所述衬底包括在所述衬底的上表面上的多个不规则部,以提高光提取效率。

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