[发明专利]镶嵌有至少一个陶瓷装饰件的陶瓷元件有效

专利信息
申请号: 201410520522.4 申请日: 2014-09-30
公开(公告)号: CN104516256B 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: C·韦尔东 申请(专利权)人: 蒙特雷斯拉多股份有限公司
主分类号: G04B19/10 分类号: G04B19/10;G04B47/04
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 秘凤华,吴鹏
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 镶嵌 至少 一个 陶瓷 装饰 元件
【权利要求书】:

1.一种制造用于钟表(1)的镶嵌陶瓷元件(10)的方法(21),包括以下步骤:

a)形成(22)陶瓷本体(11);

b)在所述陶瓷本体(11)的一个表面(F)中蚀刻(23)至少一个凹部(12),所述至少一个凹部中的每一个均形成用于装饰件(13)的造型凹腔;

c)改变(24)所述至少一个凹部的底部的表面状态,以增加该底部的接触表面;

d)通过热喷涂在所述至少一个凹部上方沉积(26)第二陶瓷材料(16),以便完全充填所述至少一个凹部;

e)平整(27)所述第二陶瓷材料(16),以便所述第二陶瓷材料仅保留在所述至少一个凹部的空心部分中。

2.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,所述陶瓷本体(11)包括钛、硅、铝或锆的碳化物、氧化物或氮化物。

3.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,所述陶瓷本体(11)是金属陶瓷。

4.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,步骤a)通过烧结实现。

5.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,所述陶瓷本体(11)是人造刚玉。

6.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,步骤b)通过激光执行。

7.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,所述至少一个凹部(12)中的每一个具有介于80μm与500μm之间的深度,以提高附着力。

8.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,步骤c)通过激光执行。

9.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,步骤c)在所述至少一个凹部的底部中形成凹坑。

10.根据权利要求9所述的方法(21),其特征在于,所述凹坑形成在所述至少一个凹部的底部上延伸的沟槽。

11.根据权利要求10所述的方法(21),其特征在于,在所述至少一个凹部的底部上延伸的所述沟槽是交叉的。

12.根据权利要求9所述的方法(21),其特征在于,所述凹坑的深度小于所述至少一个凹部(12)的深度的五分之一。

13.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,步骤c)通过喷砂执行。

14.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,步骤c)通过化学蚀刻执行。

15.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,所述第二陶瓷材料包括钛、硅、铝或锆的碳化物、氧化物或氮化物。

16.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,所述热喷涂为等离子类型的热喷涂。

17.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,在步骤d)之前,所述方法还包括以下步骤:

f)在所述至少一个凹部的底部上形成(25)连接层,以实现改善的附着性或者改变所述第二陶瓷材料的美学外观。

18.根据权利要求1所述的方法(21),其特征在于,在步骤e)之后,所述方法还包括以下步骤:

b’)在所述第二陶瓷材料的一个面中蚀刻至少一个第二凹部;

c’)改变所述至少一个第二凹部的底部的表面状态,以增加该底部的接触表面;

d’)通过热喷涂在所述至少一个第二凹部上方沉积第三陶瓷材料,以便完全充填所述至少一个第二凹部;

e’)平整所述第三陶瓷材料,以便所述第三陶瓷材料仅保留在所述至少一个第二凹部的空心部分中。

19.一种钟表(1),其特征在于,所述钟表包括至少一个根据权利要求1至18中任一项所述的方法获得的陶瓷元件(10),所述陶瓷元件镶嵌有至少一个装饰件(13)并且所述装饰件包括至少一种第二陶瓷材料(16),所述陶瓷元件的陶瓷本体(11)形成所述钟表的外部部件(2,3,4,5,6,7,8)。

20.根据权利要求19所述的钟表(1),其特征在于,所述陶瓷元件形成以下部件的全部或一部分:表壳(2)、表带(3)、表圈(4)、表盘(5)、表镜(6)、按钮(7)、表冠(8)、手表中间部件、角部、凸缘、表壳后盖、指针、链节、扣钩、装饰件。

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