[发明专利]磁记录介质用圆盘状玻璃基板及其制造方法

权利要求书

1.一种磁记录介质用圆盘状玻璃基板的制造方法，包括以下工序：从玻璃坯板裁出圆盘状玻璃基板的裁出工序、研磨所述圆盘状玻璃基板的主平面的研磨工序、以及清洗所述圆盘状玻璃基板的表面的清洗工序，所述磁记录介质用圆盘状玻璃基板的制造方法的特征在于，

在所述裁出工序中，对所述玻璃坯板的表面以沿着包含形成所述圆盘状玻璃基板的区域的圆形轮廓，照射脉冲宽度为1飞秒以上且小于1纳秒的脉冲激光束的方式进行加工，从而以沿着所述轮廓的方式形成具有10μm以上槽宽度的切割槽，并从所述玻璃坯板裁出由所述切割槽切断的所述圆盘状玻璃基板。

2.根据权利要求1所述的磁记录介质用圆盘状玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述裁出工序具有倒角工序，即：以沿着所述圆盘状玻璃基板的端面的角部照射所述脉冲激光束的方式进行加工，对所述端面进行倒角加工。

3.根据权利要求1或2所述的磁记录介质用圆盘状玻璃基板的制造方法，其特征在于，

在所述裁出工序中，通过使所述脉冲激光束对所述玻璃坯板的照射位置错开，由此对用于在所述玻璃坯板裁出多个所述圆盘状玻璃基板的切断位置依次加工所述切割槽。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的磁记录介质用圆盘状玻璃基板的制造方法，其特征在于，

在所述裁出工序之后具有端面研磨工序，即：对所述圆盘状玻璃基板的端面进行研磨。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的磁记录介质用圆盘状玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述脉冲激光束的波长为1400nm～380nm。

6.根据权利要求5所述的磁记录介质用圆盘状玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述脉冲激光束的波长为1000nm～450nm。

7.一种磁记录介质用圆盘状玻璃基板，其特征在于，

利用权利要求1～6中任一项所述的磁记录介质用圆盘状玻璃基板的制造方法来制造。