[发明专利]电子元件清洁剂及其使用方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洁剂，特别涉及用于电子元件的清洁剂。

背景技术

随着集成电路的高速发展，电子元件越来越小，密度越来越大。在制作过程中，如果 里面的污垢灰尘清除不干净，有可能会导致短路、腐蚀等问题，从而影响电路板的正常运 行。目前，多数电子元件清洁剂都是以有机物制作而成的，清洁效果好，不易造成短路、 腐蚀等问题。

公知技术使用氟氯碳化合物作为清洁剂，主要优点是不燃或不易燃，其中最广泛使用 的为1，1，2-三氟三氯乙烷(简称CFC-113)。但是，氟氯碳化合物已于1996年因环保问 题而被禁止使用。替代氟氯碳化合物的清洁剂主要有氢氟烃类、全氟烃类、氢氟醚类等。 但是，这些公知的清洁剂仍有诸多缺点。因此，有需要开发新颖创新的清洁剂，改善公知 技术的缺点。

发明内容

本发明的目的在于提供一种创新的清洁剂，其具有适度的溶解性能、良好的选择性、 低粘度、低表面张力、高浸润性、快干等优点，而且具有不易燃、低毒、低腐蚀、化学与 热稳定等特征，特别适合应用于电子、电机、精密机械、树脂加工及精密光学等元器件的 清洁剂，并可以作为干燥溶剂使用。

具体实施方式

以下将示范本发明的较佳实施例。为避免模糊本发明的内容，以下说明省略公知的零 组件、相关材料、及其相关处理技术。

本发明的清洁剂至少包含氢氟醚、氟醇以及有别于氢氟醚及氟醇的有机溶剂等三种成 分。氢氟醚(HFE)是指分子结构中含有醚键的氢氟碳化合物。适用于本发明的氢氟醚一般 总碳原子数约为4-10个，较佳不具有不饱和碳碳键。氢氟醚的分子结构可以是直链、支链、 环状或它们的组合(如烷基脂环结构)。优选氢氟醚的沸点为50-275℃，较好为50-200℃， 更好为50-110℃。氢氟醚通常是不可燃的。可用于本发明的氢氟醚的实例包括n-C₃F₇OCH₃、 (CF₃)₂CFOCH₃、n-C₄H₉OCH₃、(CF₃)₂CFCF₂OCH₃、(CF₃)₂CFCF₂OC₂H₅、(CF₃)₃COCH₃、CH₃O(CF₂)₄OCH₃、 和CH₃O(CF₂)₆OCH₃、CF₃CH₂OCF₂CF₂H(商品名HFE-347)、及CF₂HCF₂CH₂OCF₂CF₃(商品名HFE-458) 等，其中，以HFE-347及/或HFE-458较常被使用。本发明所含氢氟醚可为只有一种或多种 的结合。本发明的清洁剂中以氢氟醚的含量最多。以清洁剂的总重量为准，氢氟醚的含量 的较佳范围在80wt％～98wt％之间。

本发明的氟醇是指分子结构中含有氟原子和羟基的氢氟碳化合物。适用于本发明的氟 醇一般总碳原子数约为3-10个，较佳不具有不饱和碳碳键。氟醇的分子结构可以是直链、 支链、环状或它们的组合(如烷基脂环结构)。氟醇通常是可燃的，因此其含量不能太多。 可用于本发明的氟醇的实例包括2,2,2-三氟乙醇、2,2,3,3,3-五氟丙醇、2,2,3,3-四氟丙 醇、2,2,3,3,4,4,5,5-八氟戊醇等等，其中以2,2,3,3-四氟丙醇 (2,2,3,3-Tetrafluoro-1-propanol,以下简称TPF)较常被使用。本发明的清洁剂中， 氟醇的含量最少。以清洁剂的总重量为准，氟醇的含量在大于0wt％且小于1wt％的范围之 间，较佳的范围在大于0.1wt％且小于0.5wt％的范围之间。