[发明专利]透射式X射线光电阴极有效
| 申请号： | 201410526843.5 | 申请日： | 2014-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN104269337A | 公开（公告）日： | 2015-01-07 |
| 发明（设计）人： | 李晋;王传珂;刘慎业;杨志文;袁铮;陈韬;樊龙;黎宇坤;丁永坤 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | H01J35/06 | 分类号： | H01J35/06 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人： | 翟长明;韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透射 射线 光电 阴极 | ||
【权利要求书】：
1.一种透射式X射线光电阴极，其特征在于：包括光阴极基底，所述光电阴极基底上设置阴极连接层，阴极连接层上设置光电阴极发射体层；所述光电阴极基底层与连接层中心位置为中空结构，X射线由中空位置入射，直接与所述发射体层发生作用而发射电子；所述光电阴极发射体层包括金层Ⅰ和金层Ⅱ；所述金层Ⅰ设置于所述阴极连接层之上，厚度为40-60nm；所述金层Ⅱ设置于所述金层Ⅰ上，厚度为360-400nm；所述金层Ⅱ上均匀分布有大量的微孔；所述微孔所占金层Ⅱ的面积比为1/8-1/6。
2.根据权利要求书1所述的透射式X射线光电阴极，其特征在于：所述光电阴极基底为硅片。
3.根据权利要求书1所述的透射式X射线光电阴极，其特征在于：所述光电阴极连接层为聚酰亚胺薄膜。
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