[发明专利]一种基于磁场辅助的多级单元磁存储器件及制造方法有效

专利信息
申请号: 201410529868.0 申请日: 2014-10-10
公开(公告)号: CN104362165B 公开(公告)日: 2017-06-16
发明(设计)人: 王梦醒;张雨;郭玮;赵巍胜 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: H01L27/22 分类号: H01L27/22;H01L43/08;H01L43/12
代理公司: 北京慧泉知识产权代理有限公司11232 代理人: 王顺荣,唐爱华
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 磁场 辅助 多级 单元 磁存储器 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种基于磁场辅助的多级单元磁存储器件,其特征在于:它是形成复数个磁隧道结MTJ层叠,各个MTJ由参考层、势垒层和自由层组成;其中,参考层的磁化方向固定或通过连接钉扎层固定,自由层的磁化方向通过注入自旋极化电流在两种状态之间转换;当参考层与自由层的磁化方向平行时,MTJ呈现低电阻状态,存储数据“0”;反平行时则呈现高电阻状态,存储数据“1”;复数个MTJ通过金属隔离层串联,金属感应线设置在上述MTJ结构周围,适当调整位置,从而在各个MTJ处产生不同辅助磁场,影响其磁化方向翻转所需要的转换电流;通过施加不同方向、大小的电流与磁场,分别将各个MTJ切换至所需电阻状态,进而利用器件不同的总电阻状态存储多位数据;

在该磁存储器件中,自由层包括铁磁材料钴铁硼CoFeB、钴铁CoFe、钌Ru、钴Co、钴/铂Co/Pt或钴/钯Co/Pd,势垒层选自、但不限于金属氧化物材料氧化镁MgO、氧化铝Al2O3,参考层包括铁磁材料钴铁硼CoFeB、钴铁CoFe、钌Ru、钴Co、钴/铂Co/Pt或钴/钯Co/Pd;

其中,参考层的磁化方向需要通过钉扎层固定,构成钉扎层的材料包括铂锰PtMn、铱锰IrMn、Co/Pt或Co/Pd;磁存储器件上、下通过顶电极、底电极与外围电路相连,顶电极、底电极使用非磁性金属材料钽Ta、钌Ru、铂Pt或铝Al;金属感应线位于磁存储器件上、下或一侧的绝缘层中,绝缘层使用二氧化硅SiO2或氮化硅SiN;一条金属感应线由两个或多个磁存储器件共用,作用模式方面,固定辅助磁场,通过调整写电流完成数据存储;也能将写电流固定,利用不同辅助磁场写入相应数据;

各个MTJ基于垂直磁各向异性,也能基于面内磁各向异性,即最广泛的理解为包括两种磁各向异性的多种组合形式;所对应的MTJ截面形状选自、但不限于圆形、椭圆形及长方形,MTJ截面尺寸为纳米级。

2.一种基于磁场辅助的多级单元磁存储器件的制造方法,其特征在于:该方法具体步骤如下:

步骤一:基于传统半导体前端工艺形成绝缘层(500)及底部电接触(502),使用化学机械平坦化工艺将绝缘层(500)及底部电接触(502)平坦化后,在上方通过磁控溅射工艺沉积包含MTJ1、MTJ2的金属多层膜结构;

步骤二:通过超高磁场真空退火固定参考层(510)的磁化方向;

步骤三:掩膜(522)利用化学气相沉积、电子束光刻及反应离子束刻蚀方式获得;通过掩模(522)刻蚀金属多层膜结构至自由层(106)结束,形成器件(100)中MTJ1、MTJ2形态,底电极(504)被保留,该步骤使用反应离子束刻蚀、感应耦合离子体刻蚀或离子束刻蚀;

步骤四:绝缘层(524)通过化学气相沉积被沉积在上述步骤形成的结构上方;

步骤五:利用电子束光刻EBL形成图案化的掩模(526a)、(536b),分别用于刻蚀金属金属感应线(120)及底电极(102);

步骤六:绝缘层(528)通过化学气相沉积被沉积在上述步骤形成的结构上方,用于器件(100)的隔离与保护;

步骤七:利用大马士革在绝缘层(528)上方形成与顶电极(118)连通的顶部电接触(530),使器件(100)与外围电路相连;该步骤涉及紫外光刻、反应离子束刻蚀、电子束蒸镀及化学机械平坦化方式。

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