[发明专利]彩膜基板的制作方法、彩膜基板及液晶显示面板有效

专利信息
申请号: 201410534282.3 申请日: 2014-10-11
公开(公告)号: CN104280930B 公开(公告)日: 2017-07-18
发明(设计)人: 黄世帅;罗时勋 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/1333
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 制作方法 液晶显示 面板
【权利要求书】:

1.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:

在基板上依次沉积金属层以及黑色矩阵层,其中所述基板包括彩膜区域、黑色矩阵区域以及通孔区域;

使用半色调掩膜对所述黑色矩阵层进行图形化处理,以将所述彩膜区域的所述黑色矩阵层全部去除、将所述通孔区域的所述黑色矩阵层部分去除以及将所述黑色矩阵区域的所述黑色矩阵层全部保留;

去除所述彩膜区域的所述金属层以及所述通孔区域的所述黑色矩阵层,以形成黑色矩阵以及通孔;

在所述基板的所述彩膜区域涂布RGB彩膜层,以形成RGB彩膜;以及

在所述基板上沉积透明金属层,以形成透明电极;其中,

所述基板的所述通孔区域设置在相同颜色的所述RGB彩膜之间或设置在不同颜色的所述RGB彩膜之间。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述去除所述彩膜区域的所述金属层以及所述通孔区域的所述黑色矩阵层的步骤包括:

通过湿法刻蚀去除所述彩膜区域的所述金属层;以及

通过干法刻蚀去除所述通孔区域的所述黑色矩阵层,以形成所述黑色矩阵以及所述通孔;

其中所述透明电极通过所述通孔与所述金属层连接。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板的制作方法,其特征在于, 所述黑色矩阵区域包围所述通孔区域。

4.一种彩膜基板,其特征在于,包括:

基板,其包括彩膜区域、黑色矩阵区域以及通孔区域;

RGB彩膜,设置在所述基板的所述彩膜区域;

金属层,设置在所述基板的所述黑色矩阵区域以及所述通孔区域;

黑色矩阵,设置在所述黑色矩阵区域的所述金属层上;以及

透明电极,设置在所述RGB彩膜上、所述通孔区域的所述金属层上以及所述黑色矩阵上;其中,

所述基板的通孔区域设置在相同颜色的所述RGB彩膜之间或设置在不同颜色的所述RGB彩膜之间。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述黑色矩阵区域包围所述通孔区域。

6.一种液晶显示面板,其特征在于,包括阵列基板、彩膜基板以及设置在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层;

其中所述彩膜基板包括:

基板,其包括彩膜区域、黑色矩阵区域以及通孔区域;

RGB彩膜,设置在所述基板的所述彩膜区域;

金属层,设置在所述基板的所述黑色矩阵区域以及所述通孔区域;

黑色矩阵,设置在所述黑色矩阵区域的所述金属层上;以及

透明电极,设置在所述RGB彩膜上、所述通孔区域的所述金属层上以及所述黑色矩阵上;其中,

所述基板的通孔区域设置在相同颜色的所述RGB彩膜之间或设置在不同颜色的所述RGB彩膜之间。

7.根据权利要求6所述的液晶显示面板,其特征在于,所述黑色矩阵区域包围所述通孔区域。

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