[发明专利]离子性化合物的制备方法无效
| 申请号： | 201410535623.9 | 申请日： | 2009-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN104387410A | 公开（公告）日： | 2015-03-04 |
| 发明（设计）人： | 萩原祐二;越智刚敬;大畠和信;笠原泰祐;鸟羽健人;水田圭一郎;胜山裕大;石田知史;西田俊文 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本触媒 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 刘兵;李婉婉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子 化合物 制备 方法 | ||
1.一种离子性化合物的制备方法，该制备方法是通式(I)表示的离子性化合物的制备方法，其特征在于，该方法包括使含有氰化物和硼化合物的起始原料反应，其中，所述起始原料含有三甲基氰硅烷作为氰化物，且进一步含有胺和/或铵盐，
[化学式1]
通式(I)中，Ktm+表示有机阳离子[Ktb]m+或者无机阳离子[Kta]m+，m表示1-3的整数。
2.一种离子性化合物的制备方法，该制备方法是通式(I)表示的离子性化合物的制备方法，其特征在于，该方法包括使含有氰化物和硼化合物的起始原料反应，其中，所述氰化物是Ma(CN)n，Ma表示Zn2+、Ga3+、Pd2+、Sn2+、Hg2+以及Cu2+中的任意一个，n为2或3，
[化学式1]
通式(I)中，Ktm+表示有机阳离子[Ktb]m+或者无机阳离子[Kta]m+，m表示1-3的整数。
3.一种离子性化合物的制备方法，该制备方法是通式(I)表示的离子性化合物的制备方法，其特征在于，该方法包括使含有氰化物和硼化合物的起始原料反应，其中，所述氰化物是用R4NCN表示的氰化铵系化合物，R是H或有机基团，
[化学式1]
通式(I)中，Ktm+表示有机阳离子[Ktb]m+或者无机阳离子[Kta]m+，m表示1-3的整数。
4.一种离子性化合物的制备方法，该制备方法是通式(I)表示的离子性化合物的制备方法，其特征在于，该方法包括使含有氰化物和硼化合物的起始原料反应，其中，所述起始原料含有氢氰酸作为所述氰化物，且进一步含有胺，
[化学式1]
通式(I)中，Ktm+表示有机阳离子[Ktb]m+或者无机阳离子[Kta]m+，m表示1-3的整数。
5.根据权利要求1-4中任意一项所述的离子性化合物的制备方法，其中，该方法还包括将所述起始原料反应而得到的粗产物与氧化剂接触的工序。
6.根据权利要求5所述的离子性化合物的制备方法，其中，所述氧化物为过氧化氢。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日本触媒，未经株式会社日本触媒许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410535623.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
