[发明专利]掩膜板、柱状隔垫物的制作方法和基板的制作方法有效

专利信息
申请号: 201410539439.1 申请日: 2014-10-13
公开(公告)号: CN104267576B 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: 卢兵;罗锋 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F1/68 分类号: G03F1/68;G02F1/1339;G02F1/1333
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 掩膜板 柱状 隔垫物 制作方法
【权利要求书】:

1.一种掩膜板,其特征在于,包括第一透光区域、第二透光区域、第三透光区域和第四透光区域;

所述第一透光区域的宽度为d1,第二透光区域的宽度为d2,第三透光区域的宽度为d1,第四透光区域的宽度为d2,相邻两个所述第一透光区域之间依次设置有一个所述第二透光区域、一个所述第三透光区域和一个所述第四透光区域;

所述第二透光区域与所述第一透光区域之间的遮光区域的宽度为d3,所述第三透光区域与所述第二透光区域之间的遮光区域的宽度为d4,其中d4=1/2(d1+d2+4d3),所述第四透光区域与所述第三透光区域之间的遮光区域的宽度为d4,所述第四透光区域与所述第一透光区域之间的遮光区域的宽度为d3。

2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,d1等于d2或者d1不等于d2。

3.一种柱状隔垫物的制作方法,其特征在于,包括:

在基板上形成一层光刻胶;

使用如权利要求1或2所述的掩膜板作为第一掩膜板遮盖所述光刻胶,对所述光刻胶进行第一次曝光;

使用第二掩膜板遮盖所述光刻胶,对所述光刻胶进行第二次曝光,其中,所述第二掩膜板包括第五透光区域、第六透光区域、第七透光区域和第八透光区域,所述第五透光区域与所述第一掩膜板的第三透光区域相对应,所述第六透光区域与所述第一掩膜板的第四透光区域相对应,所述第七透光区域与所述第一掩膜板的第一透光区域相对应,所述第八透光区域与所述第一掩膜板的第二透光区域相对应。

4.根据权利要求3所述的柱状隔垫物的制作方法,其特征在于,

所述第二掩膜板为所述第一掩膜板沿所述第一透光区域的宽度方向平移d1+d2+d3+d4的奇数倍所得。

5.根据权利要求3所述的柱状隔垫物的制作方法,其特征在于,

所述第一次曝光的曝光量与所述第二次曝光的曝光量相同或不同。

6.一种基板的制作方法,其特征在于,包括以上权利要求3-5任一项所述的柱状隔垫物的制作方法。

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