[发明专利]一种用于优化光学系统参数的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201410542473.4 申请日: 2014-10-14
公开(公告)号: CN105571483B 公开(公告)日: 2018-06-26
发明(设计)人: 王鑫;张振生;施耀明;徐益平 申请(专利权)人: 睿励科学仪器(上海)有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370 代理人: 罗朋
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 测量模式 结构参数 可控 测量 光学系统参数 可选 方法和装置 结构模型 系统噪声 优化
【权利要求书】:

1.一种用于优化光学系统参数的方法,其中,该方法包括以下步骤:

S1对于多个测量模式中每一个测量模式,根据该测量模式下各个光学系统参数的标称值以及预设最大误差值,确定所有光学系统参数引入的总的系统噪声,作为与该测量模式对应的系统噪声,其中,所述测量模式规定了用于OCD测量的测量光的光谱类型以及各个光学系统参数的组合;

对于待测结构模型的每个结构参数,执行以下步骤:

S2对于多个测量模式中每一个测量模式,根据该测量模式所对应的系统噪声,并结合该结构参数的标称值与多个浮动值,同时基于所述待测结构模型的其他结构参数的标称值,确定该结构参数在该测量模式下的可控测量精度;

S3根据该结构参数在所述多个测量模式下的多个可控测量精度,确定该结构参数的一个或多个可选测量模式,并将该结构参数分别在所述一个或多个可选测量模式下的一个或多个可控测量精度,作为该结构参数对应的可控测量精度。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述步骤S1包括基于所述多个测量模式中每一个测量模式执行的以下步骤:

S11对于所述各个光学系统参数中的每个光学系统参数,根据该光学系统参数的标称值以及预设最大误差值,确定该光学系统参数在该测量模式下引入的系统噪声;

S12根据所述各个光学系统参数中的每个光学系统参数在该测量模式下引入的系统噪声,确定所述与该测量模式对应的系统噪声。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述步骤S11包括对于所述各个光学系统参数中的每个光学系统参数执行的以下步骤:

-在该测量模式下,根据该光学系统参数的标称值以及预设最大误差值,确定该光学系统参数的标称值在所述待测结构模型上产生的一条光谱数据,及对所述标称值上下浮动所述预设最大误差值后所得的两个数值分别在所述待测结构模型上产生的两条光谱数据;

-根据该光学系统参数的标称值对应的一条光谱数据以及所述两个数值对应的两条光谱数据,确定该光学系统参数引入的系统噪声。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,所述步骤S2包括基于所述多个测量模式中的每个测量模式执行的以下步骤:

-在该测量模式下,根据其他结构参数的标称值,确定该结构参数的标称值与多个浮动值分别对应的光谱数据;

-根据该结构参数的标称值与多个浮动值分别对应的光谱数据,获得该结构参数在该测量模式下引起的多个光谱信号偏移量;

-根据所述多个光谱信号偏移量与该测量模式所对应的系统噪声,确定该结构参数在该测量模式下的可控测量精度。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,被确定的可选测量模式为一个最佳测量模式,所述步骤S3包括以下步骤:

-从该结构参数在所述多个测量模式下的多个可控测量精度中选择精度最高的可控测量精度所对应的测量模式,作为所述最佳测量模式,并将所述精度最高的可控测量精度,作为该结构参数对应的最佳可控测量精度。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,所述步骤S3包括以下步骤:

-将该结构参数在所述多个测量模式下的多个可控测量精度与预定参数容差值进行比对,并选择在所述预定参数容差值限定的容差范围内的可控测量精度所对应的测量模式,作为所述可选测量模式。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,该方法在所述步骤S1之前还包括以下步骤:

-根据待测结构的材料与结构参数,建立所述待测结构模型。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,所述结构参数包括表示所述待测结构模型的结构特征的各种参数。

9.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中,表示所述光谱类型的参数包括反射率参数、偏振态变化参数、用于偏振态分析的傅立叶系数、用于表示散射过程的穆勒矩阵和NCS谱型。

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