[发明专利]用于定日镜的反射镜

权利要求书

1.一种用于与中央塔式发电站一起使用的定日镜的反射镜组件，所述反 射镜组件包括具有前侧和后侧的反射镜，所述前侧包括反射表面，所述反射 表面被构造来向收集塔反射入射在其上的太阳辐射，并且所述后侧包括低发 射率背层，所述低发射率背层被构造来减少因红外辐射造成的从所述反射镜 组件的热能损失。

2.根据权利要求1所述的定日镜，其中所述低发射率背层包括具有不大 于0.4的发射率的涂层。

3.根据权利要求1所述的定日镜，其中所述低发射率背层包括具有不大 于约200g/m2的重量的低发射率涂层。

4.根据权利要求3所述的定日镜，其中所述涂层具有不大于约100g/m2 的重量。

5.根据权利要求1所述的定日镜，其中所述低发射率背层包括通过涂抹 施加至所述后侧的涂层。

6.根据权利要求1所述的定日镜，其中所述低发射率背层通过薄膜沉积 技术来施加。

7.根据权利要求6所述的定日镜，其中所述薄膜沉积技术包括化学沉积 技术。

8.根据权利要求7所述的定日镜，其中所述化学沉积技术选自由以下组 成的组：镀敷、化学溶液沉积、旋涂、化学气相沉积、等离子体增强化学气 相沉积、原子层沉积及其组合。

9.根据权利要求7所述的定日镜，其中所述薄膜沉积技术包括物理气相 沉积技术。

10.根据权利要求9所述的定日镜，其中所述物理气相沉积技术选自由 以下组成的组：脉冲激光沉积、阴极电弧沉积、电子束物理气相沉积、蒸发 沉积及其组合。

11.根据权利要求9所述的定日镜，其中所述物理气相沉积技术包括溅 射。

12.根据权利要求11所述的定日镜，其中所述溅射选自由以下组成的 组：离子束溅射、反应溅射、离子辅助沉积、高靶利用率溅射、高功率脉冲 磁控溅射、气流溅射及其组合。

13.根据前述权利要求中任一项所述的定日镜，其中所述低发射率背层 包括聚合物基复合物。

14.根据权利要求13所述的定日镜，其中所述聚合物基复合物包括聚氨 酯复合物。

15.根据权利要求14所述的定日镜，其中所述复合物包括聚氨酯和铜的 复合物。

16.根据前述权利要求中任一项所述的定日镜，其中所述低发射率背层 包括一种或多种金属。

17.根据权利要求16所述的定日镜，其中所述金属中的至少一种选自由 以下组成的组：铜、铝、银、金以及钼。

18.根据前述权利要求中任一项所述的定日镜，其中所述低发射率背层 包括氧化锌。

19.根据前述权利要求中任一项所述的定日镜，其中所述低发射率背层 包括陶瓷。

20.根据前述权利要求中任一项所述的定日镜，其中所述低发射率背层 具有不大于0.3的发射率。

21.根据权利要求20所述的定日镜，其中所述低发射率背层具有不大于 0.2的发射率。

22.一种中央塔式发电站，其包括收集塔和多个根据前述权利要求中任 一项所述的定日镜，每个所述定日镜均设置来向所述收集塔反射入射的太阳 辐射。