[发明专利]一种平面轮廓轨迹跟踪控制方法有效

专利信息
申请号: 201410545066.9 申请日: 2014-10-15
公开(公告)号: CN104375458B 公开(公告)日: 2018-01-05
发明(设计)人: 何德峰;张全鹏;倪洪杰;俞立;徐建明 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: G05B19/19 分类号: G05B19/19
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司33109 代理人: 尉伟敏
地址: 310014 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 平面 轮廓 轨迹 跟踪 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种平面轮廓轨迹跟踪控制方法,其特征在于:包括如下步骤:

步骤一、根据待跟踪的X轴与Y轴轮廓轨迹位置函数sX与sY,建立平面轮廓轨迹跟踪控制状态空间数学模型,为方程一:

x·(t)=Ax(t)+Bu(t)]]>

其中,符号“t”表示时间变量;状态向量x=[x1 x2 x3 x4]T,变量x1表示X轴跟踪距离,变量x2表示X轴跟踪速度,变量x3表示Y轴跟踪距离,变量x4表示Y轴跟踪速度,符号“T”表示向量的转置;控制输入向量u=[u1 u2]T,变量u1=EX-(sXXaX)/kX和u2=EY-(sYYaY)/kY,常量τX和τY分别是X轴和Y轴电机的时间常数,常量kX和kY分别是X轴和Y轴电机的增益常数,变量EX和EY分别是X轴和Y轴电机的输入电压,变量aX和aY分别是X轴和Y轴的跟踪加速度;参数矩阵

A=01000-1/τX000001000-1/τY,B=00kX/τX0000kY/τY;]]>

步骤二、根据方程一,求解如下的Riccati矩阵方程二:

ATP+PA-aPBBTP=-I

得4×4维的对称正定矩阵解P,其中,系数a为正常数;

步骤三、根据方程一和对称正定矩阵解P,设计平面轮廓轨迹跟踪控制器,为方程三:

u=-a^BTPx]]>

其中,系数为可调参数;为满足控制器的稳定性,要求

步骤四、根据方程三,计算X轴和Y轴电机的输入电压

步骤五、在线测量X轴和Y轴的跟踪距离、跟踪速度和跟踪加速度,根据方程三实时计算跟踪控制量u,再根据方程四得到X轴和Y轴电机的输入电压,驱动X轴和Y轴跟踪平面轮廓轨迹位置函数sX与sY

2.根据权利要求1所述的一种平面轮廓轨迹跟踪控制方法,其特征在于:所述平面轮廓轨迹跟踪控制方法的具体实施过程包括以下阶段:

阶段一、参数设置,包括模型参数和控制器参数,在模型参数导入中,根据数控机床X轴和Y轴电机的参数,输入方程一中参数矩阵A和B的值;在控制器参数设置中,输入轮廓轨迹位置函数sX与sY,以及常数a>0,输入参数确认后,由控制计算机将设置数据送入计算机存储单元RAM中保存;

阶段二、离线调试,调整可调参数观察X轴和Y轴跟踪距离与电机输入电压的控制效果,由此确定一个能良好实现轮廓轨迹跟踪控制的参数参数的调整规则:增大将加快轨迹跟踪的响应速度,但增加轨迹跟踪响应的超调量,同时增加电机的输入电压;相反,减小将平缓轨迹跟踪的响应速度,减小电机的输入电压,但延长轨迹跟踪的调整时间,因此,实际调试参数时,应权衡轨迹跟踪的响应能力、超调量、调整时间和电机输入电机之间的综合性能;

阶段三、在线运行,启动主控制计算机的CPU读取模型参数、轮廓轨迹位置函数和控制器参数,通过在线测量X轴和Y轴的跟踪距离、跟踪速度和跟踪加速度,计算X轴和Y轴电机的输入电压,驱动X轴和Y轴跟踪轮廓轨迹位置函数;在下一个控制周期时,在线测量X轴和Y轴的跟踪距离、跟踪速度和跟踪加速度,之后重复整个执行过程;如此周而复始,实现数控机床高速、高精度的稳定化平面轮廓轨迹跟踪控制。

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