[发明专利]一种控制微纳结构倒伏的方法

权利要求书

1.一种控制微纳结构倒伏的方法，其特征是：该方法在所需的微纳结构中添加辅助结构来控制其倒伏方向；微纳结构受表面张力的作用是相互靠近的，在其周围添加辅助结构来限制他们在某些方向上的运动，可以控制微纳结构朝着所需的方向倒伏，该辅助结构的设计要求为：根据所需图形的形状、尺寸来设计辅助结构的形状、尺寸，根据微纳结构需要倒伏的方向设计辅助结构的位置。

2.根据权利要求1所述的一种控制微纳结构倒伏的方法，其特征是：微纳结构在干燥过程中受表面张力可以由公式计算：

F=2γHLcosθd]]>

其中，结构的长度为L，高度为H，结构的间隙为d，液体与结构之间的表面张力为γ，液体与结构之间夹角为θ，知道微纳结构的尺寸、液体的种类，就可以计算出结构所受的液体表面张力的大小；辅助结构的尺寸设计要保证其强度可以帮助微纳结构克服所受表面张力的作用，为了便于计算和加工，通常设计为三角形或长方形；辅助结构的位置需要放置在微纳结构倒伏方向的另一侧，同时要避免添加的辅助结构影响微纳结构的相互位置关系，不能妨碍微纳结构倒伏时的相互接触、不能影响微纳结构的整体性能。

3.根据权利要求1所述的一种控制微纳结构倒伏的方法，其特征是：辅助结构的位置通常设计为靠近或接触微纳结构的边缘，以尽量减小由于结构的添加对微纳结构的整体性能带来的影响。

4.根据权利要求1所述的一种控制微纳结构倒伏的方法，其特征是：该方法的具体工艺如下：

1)将设计好的辅助结构添加到微纳结构中，制作在同一个图形中；

2)基于设计好的图形、利用曝光工艺来制作微纳结构；

3)显影、干燥，获得受控倒伏的微纳结构。