[发明专利]一种高反射率的光学膜及其制造方法

权利要求书

1.一种高反射率的光学膜，包括基材，其特征在于：在基材的至少一面上涂有至少一层含有空心粒子的涂层。

2.根据权利要求1所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述涂层的一面为反射功能面。

3.根据权利要求1所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述空心粒子为玻璃微珠，其折射率≥1.650。

4.根据权利要求1所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述空心粒子平均直径≤5μm，空心内部平均直径0.3-2μm。

5.根据权利要求1所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述涂层表面空心粒子的覆盖率≥9.7%。

6.根据权利要求1或4所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述空心粒子直径1-5μm，空心内部直径0.3-2μm。

7.根据权利要求1或5所述的一种高反射率的光学膜，其特征在于：所述表面空心粒子的覆盖率9.7%-92.5%。

8.一种高反射率的光学膜的制造方法，其特征在于：包括以下步骤:

（1）按照如下组成配制基础涂布液，然后根据配方加入玻璃微珠，搅拌均匀；

基础涂布液的质量组分如下：

丙烯酸水分散体（固含量50%）     50份

去离子水                         44份

三聚氰胺                         5份

聚乙二醇                         0.98份

紫外吸收剂                       0.02份

（2）将基材平铺于涂布台上，启动自动涂布机，进行涂覆；

（3）将涂覆的薄膜置于120℃下干燥30min，并逐渐冷却室温，即可得到被本发明所述的光学膜。

9.根据权利要求8所述的一种高反射率的光学膜的制造方法，其特征在于：所述基材是指承载涂层的薄膜，其制备方法如下：

将聚酯面层层原料、聚酯芯层原料在150℃左右的温度下预结晶－干燥后，分别输送至面层用挤出机和芯层用挤出机；其中，面层原料为100份聚酯和4wt%TiO₂（平均粒径0.5μm）；芯层原料为100份聚酯和8wt% BaSO₄（平均粒径为1.0μm）、8wt%聚甲基戊烯、1wt%聚乙二醇；在上述挤出机中，所述原料在275℃左右的温度下熔融挤出，并经过滤器过滤后从多层模头中挤出，得到片状熔体；将上述片状熔体一面通过静电吸附装置贴附在激冷辊上冷却固化，得到厚片；将该厚片经一组表面温度为78℃左右的辊预热，然后在温度为85℃左右的温度下纵向拉伸，拉伸倍率为3.2，得到单轴拉伸聚酯膜片；用夹子夹持上述聚酯膜片两边，进入横拉机内，先在90℃左右的温度下预热，接着在100℃左右的温度下横向拉伸3.2倍，然后经在220℃左右的温度下热定型，再在60℃左右的温度下冷却；之后经牵引、切边、收卷后得到双向拉伸膜片即可。