[发明专利]光学体及其制造方法、日光遮蔽构件、窗构件及内装构件有效

专利信息
申请号: 201410552992.9 申请日: 2011-04-08
公开(公告)号: CN104297824B 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 影山正光;吉田宽则;谷岛胜行;长浜勉;榎本正 申请(专利权)人: 迪睿合电子材料有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;B32B3/30;B32B37/02;E06B9/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 李啸,姜甜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 及其 制造 方法 日光 遮蔽 构件
【权利要求书】:

1.一种光学体,包括:

第一光学层;

第二光学层,具有光入射至其上的入射面;以及

反射层,被夹在所述第一光学层和所述第二光学层之间,

其中,所述反射层是半透射层,对于透射的光,依据JIS K-7105测定的0.5mm的光梳的透射清晰度是30以上,

所述第一光学层包括在设置了所述反射层的表面上或在该表面中形成的多个凸形或凹形结构,

所述凸形结构的脊部或彼此相邻的所述凹形结构之间的脊部具有向所述入射面侧突出的末端部,

所述末端部从理想形状变形,

所述第二光学层透明,并且具有1.1以上1.9以下的折射率,并且

所述光学体在除了(-θ,φ + 180°)之外的方向上选择性地指向性反射以入射角(θ,φ)入射至所述入射面的光中的处于特定波长带的一部分光,其中,θ为入射面的垂线与入射至入射面的光或从入射面反射的光所形成的角,并且φ为入射面内的特定直线与将入射光或反射光投影至入射面所获得的分量之间所形成的角。

2. 根据权利要求1所述的光学体,其中,这多个结构被排列为周期性结构的图案。

3. 根据权利要求2所述的光学体,其中,所述末端部以相对于所述结构的阵列节距为7%以下的比例从所述理想形状变形。

4. 根据权利要求1所述的光学体,其中,所述第二光学层的折射率为1.4以上1.6以下。

5. 根据权利要求1所述的光学体,其中,所述第二光学层的折射率为1.49以上1.55以下。

6. 根据权利要求1所述的光学体,其中,所述理想形状的截面形状为三角形。

7. 根据权利要求1-3所述的光学体,其中,所述指向性反射的光为400 nm至2100 nm波长带中的光。

8. 根据权利要求1所述的光学体,其中,所述结构具有棱镜形形状、与柱状透镜形状相反的形状以及角锥形状中的至少一种形状。

9. 根据权利要求1所述的光学体,其中,所述结构以一维周期性图案排列在所述第一光学层的所述表面上,并且

以所述入射面的垂线为基准,所述结构的主轴在所述结构排列的方向上从所述基准倾斜。

10. 根据权利要求1所述的光学体,其中,所述结构的阵列节距为30μm以上5mm以下。

11. 根据权利要求1所述的光学体,其中,所述第一光学层和所述第二光学层中的至少一个吸收可见光范围内的特定波长带中的光。

12. 根据权利要求1所述的光学体,其中,由所述第一光学层和所述第二光学层形成光学层,并且

所述光学体还包括位于所述光学层的表面、所述光学层的内部以及所述反射层与所述光学层之间的至少一个位置处的光散射体。

13. 根据权利要求1所述的光学体,其中,所述光学体还包括位于所述入射面上的疏水性或亲水性的层。

14. 一种日光遮蔽构件,包括根据权利要求1所述的光学体。

15. 一种窗构件,包括根据权利要求1所述的光学体。

16. 一种内装构件,包括根据权利要求1所述的光学体。

17. 一种建筑构件,包括采光部,其中,所述采光部包括根据权利要求1所述的光学体。

18. 一种光学体制造方法,包括以下步骤:

将模具或冲模的凹凸形状转印至第一树脂材料,从而形成第一光学层,所述第一光学层包括在其一个主面上或该主面中形成的多个凸形或凹形结构;

在已经被转印至所述第一光学层的凹凸表面上形成反射层;以及

用第二树脂材料包埋所述反射层,从而形成具有光入射的入射面的第二光学层,所述第二光学层透明,并且具有1.1以上1.9以下的折射率,

其中,所述反射层是半透射层,对于透射的光,依据JIS K-7105测定的0.5mm的光梳的透射清晰度是30以上,

所述凸形结构的脊部或彼此相邻的所述凹形结构之间的脊部具有向所述入射面侧突出的末端部,

所述末端部从理想形状变形,并且

所述光学体在除了(-θ,φ + 180°)之外的方向上选择性地指向性反射以入射角(θ,φ)入射至所述入射面的光中的处于特定波长带的一部分光,其中,θ为入射面的垂线与入射至入射面的光或从入射面反射的光所形成的角,并且φ为入射面内的特定直线与将入射光或反射光投影至入射面所获得的分量之间所形成的角。

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