[发明专利]一类基于三蝶烯骨架的有机多孔聚合物及其制备和应用

权利要求书

1.一种有机多孔聚合物，其特征在于，所述的有机多孔聚合物具有以下式IIIa所示的结构单元：

式中，R选自下组：H、取代或未取代的C1～C6的烷基；其中，所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代：卤素、羟基、羧基、羰基；

以及与式IIIa结构单元相连的星形连接单元，其中，所述的星形连接单元是具有3～6个连接位点的基团，且所述的星形链接单元为选自下组的化合物失去3～6个氢原子形成的基团：取代或未取代的C1-C6烷烃，取代或未取代的C6-C20芳烃，取代或未取代的C1-C20杂芳烃；

其中，所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的基团取代：卤素、C1-C4烷基；

且所述的有机多孔聚合物中，式IIIa结构单元和星形连接单元的排列方式为：任意两个所述式IIIa结构单元之间通过星形连接单元相连，且任意两个星形连接单元之间通过所述式IIIa结构单元相连；

上述各式中，表示连接位点。

2.如权利要求1所述的有机多孔聚合物，其特征在于，所述的星形连接单元具有以下结构：

其中，n＝3～6；

Rf选自下组：取代或未取代的C1-C6烷烃，取代或未取代的C6-C20芳烃，取代或未取代的C1-C20杂芳烃。

3.如权利要求1所述的有机多孔聚合物，其特征在于，所述的有机多孔聚合物具有以下式IIIa所示的结构单元，以及式IIIb或式IIIc所示的结构单元：

且所述的有机多孔聚合物中，式IIIa结构单元和式IIIb结构单元或式IIIc结构单元的排列方式为：任意两个所述式IIIa结构单元之间通过式IIIb结构单元或式IIIc结构单元相连，且任意两个式IIIb结构单元或式IIIc结构单元之间通过所述式IIIa结构单元相连；

上述各式中，表示连接位点；

R选自下组：H、取代或未取代的C1～C6的烷基；其中，所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代：卤素、羟基、羧基、羰基。

4.一种有机多孔聚合物，其特征在于，所述的有机多孔聚合物是用式I化合物与第二连接单元进行脱水缩合形成的；

其中，所述的式I化合物如下：

所述的第二连接单元为具有3-6个-B(OH)₂基团的分子，且所述的有机多孔聚合物中包括以下重复单元：

上述各式中，各基团的定义如权利要求1中所述；

表示连接位点。

5.如权利要求4所述的有机多孔聚合物，其特征在于，所述的第二连接基团为3-6个氢原子被-B(OH)₂基团取代的选自下组的分子：取代或未取代的C1-C6烷烃，取代或未取代的C6-C20芳烃，取代或未取代的C1-C20杂芳烃；其中，所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的基团取代：卤素、C1-C4烷基。

6.如权利要求1或4所述的有机多孔聚合物的制备方法，其特征在于，所述的有机多孔聚合物是通过以下方法制备的：

(1)在惰性溶剂中，用式II化合物和式I化合物进行脱水缩合，得到如权利要求1所述的有机多孔聚合物；

其中，所述的式II化合物和式I化合物如下：

其中，各基团的定义如权利要求1中所述，n＝3～6。

7.如权利要求6所述的有机多孔聚合物的制备方法，其特征在于，所述的有机多孔聚合物是通过以下方法制备的：

(1a)在惰性溶剂中，用式IIa化合物和式I化合物进行脱水缩合，得到如权利要求1所述的有机多孔聚合物；

或所述的有机多孔聚合物是通过以下方法制备的：

(1b)在惰性溶剂中，用式IIb化合物和式I化合物进行脱水缩合，得到如权利要求1所述的有机多孔聚合物；

其中，所述的式IIa化合物、式IIb化合物和式I化合物如下：

其中，各基团的定义如权利要求4中所述。

8.如权利要求6或7所述的制备方法，其特征在于，包括步骤：(2)反应结束后，用惰性溶剂或超临界二氧化碳洗涤产物，得到有机多孔聚合物。