[发明专利]不粘锅及其制造方法

权利要求书

1.一种不粘锅，包括锅身，其特征在于，所述锅身的表面上具有薄膜层，所述薄膜层为Cr、Zr、N三元氮化物的薄膜层，所述三元氮化物的薄膜层中，Cr、Zr、N三种元素的原子个数百分比分别为10～40％、15～45％、28～58％。

2.根据权利要求1所述的不粘锅，其特征在于，所述薄膜层的厚度为0.1～25μm。

3.根据权利要求1所述的不粘锅，其特征在于，所述薄膜层通过磁控溅射法、多弧离子镀法、化学气相沉积法、离子束沉积法或脉冲激光沉积法形成。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的不粘锅，其特征在于，在所述锅身的表面和所述薄膜层之间还设有过渡层。

5.根据权利要求4所述的不粘锅，其特征在于，所述过渡层包括Cr和/或Ti，且厚度为0.01～0.5μm。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的不粘锅，其特征在于，所述薄膜层经过砂光处理，以便在所述薄膜层的表面上形成微观纹理。

7.一种不粘锅的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：

(1)成型步骤：形成弧形底或平底的锅身；

(2)表面处理步骤：对烘干后的锅身表面进行喷砂或者砂光处理，形成预定范围的表面粗糙度；

(3)薄膜层形成步骤：在所述锅身的表面上形成薄膜层，所述薄膜层为Cr、Zr、N三元氮化物的薄膜层，所述三元氮化物的薄膜层中，Cr、Zr、N三种元素的原子个数百分比分别为10～40％、15～45％、28～58％；

(4)砂光步骤：所述薄膜层形成之后，对所述薄膜层进行砂光处理，增加表面光洁度的同时，在所述薄膜层的表面形成微观纹理。

8.根据权利要求7所述的不粘锅的制造方法，其特征在于，在所述薄膜层形成步骤中，采用磁控溅射法或多弧离子镀法在所述锅身的表面上沉积所述三元氮化物的薄膜，工艺参数如下：负偏压0～250V；N₂流量为0.1～0.3L/min；Ar流量为0.02～0.05L/min；靶电流为30～100A；沉积温度为250～450℃；沉积时间为30～120min。

9.根据权利要求7所述的不粘锅的制造方法，其特征在于，在所述表面处理步骤之后和所述薄膜层形成步骤之前，在所述锅身的表面上沉积过渡层。