[发明专利]清洗设备及采用该清洗设备的化学发光测定仪

权利要求书

1.一种清洗设备，用于化学发光测定仪中，其特征在于，所述清洗设备包括：

底座；

推杯机构，设置于所述底座上，所述推杯机构包括装设于所述底座上的驱动件、由所述驱动件驱动的多个齿轮、与所述多个齿轮啮合的齿条，以及设置于所述齿条上的推动件；

返程机构，平行所述推杯机构设置于所述底座的一侧；及

清洗装置，设置于所述底座远离所述返程机构的一侧并对准所述推杯机构，所述清洗装置包括：

两个导引件，平行所述推杯机构设置于所述底座上，所述两个导引件之间形成有清洗槽，所述清洗槽沿第一方向延伸；

升降机构，邻近所述导引件设置，所述升降机构包括支撑件、升降件、以及驱动件，所述支撑件设置于所述底座上且设置有导轨，所述升降件上设置有滑块并通过所述滑块与所述导轨滑动配合，所述升降机构的驱动件装设于底座上并能够驱动所述升降件沿与所述第一方向垂直的第二方向运动；及

清洗机构，设置于所述升降件远离所述清洗槽的一端，所述清洗机构能够在所述升降件的带动下相对所述清洗槽移动。

2.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于：所述清洗机构包括固定座、至少两个定位组件以及设置于所述固定座上的针组件，所述固定座上间隔开设有至少两个定位孔，每个定位组件穿设于对应的定位孔中并可调节地装设于所述升降件上。

3.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于：所述定位组件包括定位套与紧固件，所述定位套收容于对应的定位孔中并与所述固定座相固定，所述紧固件穿设于所述定位套中并可调节地装设于所述升降件上。

4.根据权利要求3所述的清洗设备，其特征在于：所述定位套包括收容部以及由所述收容部一端周缘向内延伸形成的定位部，所述收容部固定于所述固定座上，所述定位部抵持于所述升降件上且其上开设有调节孔，所述紧固件包括头部及与所述头部连接的杆部，所述头部抵持于所述定位部上，所述杆部穿设于所述调节孔中并可调节地装设于升降件上。

5.根据权利要求4所述的清洗设备，其特征在于：所述杆部的直径小于所述调节孔的直径，所述杆部与所述调节孔的周壁之间形成大于0.3毫米的间隙。

6.根据权利要求2所述的清洗设备，其特征在于：所述针组件为多个且沿直线排列，每个针组件包括基座、固持件、弹性件、清洗针及废液针，所述基座固定于所述固定座上且其一侧边缘形成有凹口，所述固持件收容于所述基座的凹口中并活动穿设于所述固定座上，所述固持件上凸伸有抵持部，所述弹性件两端分别抵持于所述抵持部与所述基座，所述清洗针和废液针并排穿设于所述固持件上。

7.根据权利要求6所述的清洗设备，其特征在于：所述基座邻近所述凹口形成有凸部，所述弹性件的一端抵持于对应的抵持部上，另一端套设于对应的凸部上并抵持于所述基座上。

8.根据权利要求1所述的清洗设备，其特征在于：所述返程机构包括两个导向件、隔热件以及返程组件，所述两个导向件设置于所述推杯机构背离所述清洗机构的一侧且平行于所述两个导引件，所述两个导向件之间形成有返程槽，所述隔热件设置于所述导向件与所述底座之间，所述返程组件邻近所述两个导向件设置于所述底座上，所述返程组件包括推样件。

9.根据权利要求8所述的清洗设备，其特征在于：所述返程组件还包括支架、返程驱动件、主动轮、从动轮、传动带及滑动块，所述支架邻近所述底座的边缘设置，所述返程驱动件设置于所述支架上，所述主动轮连接于所述驱动件上，所述从动轮相对所述从动轮设置于所述支架上，所述传动带套设于所述主动轮与所述从动轮上，所述滑动块固定于所述传动带上并与所述支架滑动配合，所述推样件转动设置于所述滑动块上。

10.根据权利要求8所述的清洗设备，其特征在于：所述返程机构还包括变轨组件，所述变轨组件包括限位件、转动件、弹性连接件以及滑行件，所述限位件设置于一个导向件外侧并与所述导向件之间形成有轨迹槽，所述转动件转动地设置于所述轨迹槽的一端，所述弹性连接件收容于所述轨迹槽中且连接所述转动件以使所述转动件封闭所述轨迹槽的一端，所述滑行件设置于所述推样件上并收容于所述轨迹槽中。