[发明专利]一种大孔径空间外差干涉光谱成像仪装调方法有效

专利信息
申请号: 201410563371.0 申请日: 2014-10-21
公开(公告)号: CN104280121A 公开(公告)日: 2015-01-14
发明(设计)人: 杜述松;相里斌;才啟胜;张金刚 申请(专利权)人: 中国科学院光电研究院
主分类号: G01J3/45 分类号: G01J3/45;G01J3/02
代理公司: 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 代理人: 郑立明;郑哲
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 孔径 空间 外差 干涉 光谱 成像 仪装调 方法
【权利要求书】:

1.一种大孔径空间外差干涉光谱成像仪装调方法,其特征在于,该方法包括:

根据设置在准直光源与置于转台上一反射镜之间的一小孔光阑,来调节转台使得所述反射镜的镜面与所述准直光源的出射光垂直,并记录对应的转台刻度W;再采用步进次的方式调节所述反射镜所处转台,并在一高度接收面上获得多个处于同一高度h的光斑;

在所述小孔光阑与所述反射镜之间设置一置于转台上的第一光栅,基于所述小孔光阑来调节所述第一光栅下所处的转台,使所述第一光栅的光栅面与所述准直光源的出射光垂直;并基于所述高度h的光斑来调节所述第一光栅下所处的转台,使所述第一光栅的刻线方向与其所处转台垂直;

在所述准直光源上方设置一置于转台上的第二光栅,使所述第二光栅能接收到所述第一光栅的衍射光,并将所述反射镜所处转台的刻度调节至W;

基于调节后的反射镜及所述第一光栅,来调节所述第二光栅,使得所述第二光栅的光栅面与所述第一光栅的光栅面平行,且所述第二光栅的刻线方向与其所处转台垂直。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述调节转台使得所述反射镜的镜面与所述准直光源的出射光垂直包括:

准直光源出射光通过所述小孔光阑射入所述反射镜;

调节转台使得所述反射镜使得反射光线通过所述小孔光阑原路返回,则此时所述反射镜的镜面与所述准直光源的出射光垂直。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述小孔光阑来调节所述第一光栅下所处的转台,使所述第一光栅的光栅面与所述准直光源的出射光垂直包括:

准直光源出射光通过所述小孔光阑射入所述第一光栅;

调节所述第一光栅下所处的转台,使得所述第一光栅的衍射光通过所述小孔光阑原路返回,则此时所述第一光栅的光栅面与所述准直光源的出射光垂直。

4.根据权利要求1或3所述的方法,其特征在于,所述并基于所述高度h的光斑来调节所述第一光栅下所处的转台,使所述第一光栅的刻线方向与其所处转台垂直包括:

调节所述第一光栅所处转台,当其在所述高度接收面上的光斑高度与光斑高度h一致时,则所述第一光栅的刻线方向与其所处转台垂直。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于调节后的反射镜及所述第一光栅,来调节所述第二光栅,使得所述第二光栅的光栅面与所述第一光栅的光栅面平行,且所述第二光栅的刻线方向与其所处转台垂直包括:

准直光源出射光通过所述小孔光阑射入所述第一光栅,所述第二光栅接收到所述第一光栅的衍射光后射入所述反射镜;调节所述第二光栅下所处的转台,使得所述第二光栅将所述反射镜的反射光衍射至所述第一光栅后返回至所述小孔光阑,则此时所述第二光栅的光栅面与所述第一光栅的光栅面平行;

再调节所述反射镜所处转台,若其在所述高度接收面上的光斑高度为高度h,则所述第二光栅的刻线方向与其所处转台垂直。

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